| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-13页 |
| 1 引言 | 第13-31页 |
| ·永磁材料的发展 | 第13-14页 |
| ·烧结钕铁硼永磁材料的基本特征 | 第14-24页 |
| ·相组成和晶体结构 | 第14-18页 |
| ·性能表征 | 第18-22页 |
| ·常用添加元素 | 第22-24页 |
| ·烧结钕铁硼永磁材料的制备技术发展 | 第24-27页 |
| ·细化晶料工艺 | 第24-25页 |
| ·脉冲磁场取向和橡胶等静压成型 | 第25页 |
| ·双合金工艺 | 第25-26页 |
| ·晶界扩散法 | 第26-27页 |
| ·低成本含Ce烧结钕铁硼永磁材料的发展现状 | 第27-29页 |
| ·论文选题意义及研究内容 | 第29-31页 |
| ·论文的研究意义 | 第29-30页 |
| ·论文研究的内容 | 第30-31页 |
| 2 实验过程和测量技术 | 第31-41页 |
| ·烧结钕铁硼磁体的制备工艺 | 第31-35页 |
| ·速凝片制备 | 第31-32页 |
| ·氢破碎及气流磨 | 第32-33页 |
| ·成型 | 第33-34页 |
| ·烧结与回火 | 第34-35页 |
| ·分析测试设备 | 第35-41页 |
| ·激光粒度分析仪 | 第35-36页 |
| ·密度测量 | 第36页 |
| ·氧测定仪 | 第36-37页 |
| ·磁性能测试设备 | 第37页 |
| ·差热扫描分析仪 | 第37-38页 |
| ·X射线衍射仪 | 第38页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第38-39页 |
| ·透射电子显微镜 | 第39-41页 |
| 3 含Ce磁体制备工艺对性能的影响 | 第41-57页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·高性能磁体的制备 | 第41-45页 |
| ·高性能磁体成分 | 第41-43页 |
| ·高性能磁体制备工艺的优化 | 第43-45页 |
| ·双主相法与单主相法制备含Ce磁体性能对比 | 第45-46页 |
| ·添加Ce对磁体制备工艺的影响 | 第46-54页 |
| ·速凝片制备 | 第46-48页 |
| ·氢破碎 | 第48-49页 |
| ·气流磨制粉 | 第49-50页 |
| ·烧结 | 第50-51页 |
| ·回火处理 | 第51-54页 |
| ·添加Ce对磁体结构的影响 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 4 含Ce磁体的微观结构 | 第57-75页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·含Ce磁体内的晶体结构 | 第57-59页 |
| ·Nd_(30)Fe_(bal)B_1M和Ce_(15)Nd_(15)Fe_(bal)B_1M磁体粉末XRD | 第59-60页 |
| ·Ce_9Nd(21)Fe_(bal)B_1M磁体的微观结构 | 第60-69页 |
| ·Ce_9Nd(21)Fe_(bal)B_1M磁体主相 | 第60-62页 |
| ·双主相磁体性能的理论计算 | 第62-64页 |
| ·Ce_9Nd(21)Fe_(bal)B_1M磁体的晶界相 | 第64-68页 |
| ·Ce_9Nd(21)Fe_(bal)B_1M磁体中主相与晶界相的位向关系 | 第68-69页 |
| ·Ce_(15)Nd_(15)Fe_(bal)B_1M磁体的微观结构 | 第69-72页 |
| ·Ce含量对磁体晶界相的影响 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 5 含Ce磁体的工程化关键技术 | 第75-92页 |
| ·前言 | 第75页 |
| ·N42磁体的制备 | 第75-79页 |
| ·关键制备技术对磁体性能的影响 | 第79-86页 |
| ·取向度 | 第79-80页 |
| ·氧含量 | 第80-83页 |
| ·粉末粒度 | 第83页 |
| ·制备工艺对磁体方形度的影响 | 第83-86页 |
| ·烧结态磁体矫顽力的调控 | 第86-91页 |
| ·实验过程 | 第86-87页 |
| ·磁体微观结构分析 | 第87-91页 |
| ·本章小结 | 第91-92页 |
| 6 结论 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-102页 |
| 作者简历及在学研究成果 | 第102-106页 |
| 学位论文数据集 | 第106页 |
