摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 文献综述 | 第10-23页 |
·乙烷制乙烯概述 | 第10-19页 |
·乙烯的重要性 | 第10页 |
·乙烯的生产技术 | 第10-14页 |
·热裂解技术 | 第10-11页 |
·催化裂解技术 | 第11页 |
·其他技术 | 第11-12页 |
·乙烷制乙烯的技术 | 第12-14页 |
·乙烷氧化脱氢制乙烯催化剂体系 | 第14-17页 |
·碱金属、碱土金属氧化物催化剂 | 第14页 |
·过渡金属基氧化物催化剂 | 第14-16页 |
·稀土基氧化物催化剂 | 第16页 |
·其它催化剂体系 | 第16-17页 |
·乙烷氧化脱氢机理 | 第17-19页 |
·Heterogenous-Homogenous机理 | 第17-18页 |
·氧化还原机理 | 第18-19页 |
·酸碱反应机理 | 第19页 |
·纳米材料的概述 | 第19-22页 |
·纳米材料的基本概念和内涵 | 第19页 |
·纳米催化剂的不同制备方法 | 第19-21页 |
·纳米氧化镍的研究现状 | 第21-22页 |
·选题意义及研究思路 | 第22-23页 |
第二章 实验部分 | 第23-28页 |
·实验试剂及规格 | 第23页 |
·实验仪器及型号 | 第23-24页 |
·催化剂性的性能评价和计算方法 | 第24-26页 |
·催化剂活性评价 | 第24-25页 |
·催化剂性能的计算方法 | 第25-26页 |
·催化剂的表征 | 第26-28页 |
·X射线粉末衍射(XRD) | 第26页 |
·扫描电镜(SEM) | 第26页 |
·程序升温还原(H_2-TPR) | 第26页 |
·程序升温脱附(O_2-TPD-MS) | 第26-27页 |
·CO_2程序升温脱附(CO_2-TPD-MS) | 第27页 |
·比表面积测定(BET方法) | 第27页 |
·X射线光电子能谱分析(XPS) | 第27-28页 |
第三章 片状镍基催化剂的制备及其乙烷氧化脱氢性能研究 | 第28-48页 |
·不同元素掺杂的NiMeO催化剂 | 第28-36页 |
·引言 | 第28页 |
·催化剂的制备 | 第28页 |
·SEM表征 | 第28-30页 |
·XRD表征 | 第30-31页 |
·H_2-TPR研究 | 第31-32页 |
·O_2TPD研究 | 第32-33页 |
·CO_2-TPD研究 | 第33页 |
·XPS表征 | 第33-35页 |
·性能评价 | 第35-36页 |
·小结 | 第36页 |
·不同Zr含量的NiZrO催化剂研究 | 第36-48页 |
·引言 | 第36-37页 |
·SEM表征 | 第37-39页 |
·BET表征 | 第39-40页 |
·前驱体XRD表征 | 第40-41页 |
·XRD表征 | 第41-42页 |
·催化性能研究 | 第42-43页 |
·H_2-TPR研究 | 第43-44页 |
·XPS表征 | 第44-46页 |
·O_2-TPD研究 | 第46-47页 |
·小结 | 第47-48页 |
第四章 不同形貌的NiZrO催化剂的乙烷氧化脱氢性能研究 | 第48-58页 |
·引言 | 第48页 |
·不同形貌NiZrO催化剂的制备 | 第48-49页 |
·直接焙烧法 | 第48页 |
·模板法 | 第48-49页 |
·沉淀法 | 第49页 |
·水热法 | 第49页 |
·溶胶凝胶法 | 第49页 |
·不同形貌NiZrO催化剂的表征 | 第49-57页 |
·SEM表征 | 第49-51页 |
·XRD表征 | 第51页 |
·BET表征 | 第51-52页 |
·H_2-TPR表征 | 第52-53页 |
·O_2-TPD表征 | 第53-54页 |
·CO_2-TPD表征 | 第54-55页 |
·XPS表征 | 第55-56页 |
·活性评价 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-63页 |
攻读学位期间取得的研究成果 | 第63-64页 |
致谢 | 第64-65页 |