| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-27页 |
| ·纳米材料概述 | 第9页 |
| ·二氧化铈纳米材料概述 | 第9-12页 |
| ·纳米氧化铈的结构特点与性质 | 第9-11页 |
| ·二氧化铈形貌控制的形成机制 | 第11-12页 |
| ·常见的纳米二氧化铈制备方法 | 第12-21页 |
| ·沉淀合成方法 | 第12-13页 |
| ·水热/溶剂热法 | 第13-15页 |
| ·定向模板合成法 | 第15-18页 |
| ·微乳液法 | 第18-21页 |
| ·其他金属修饰的氧化铈基材料的制备 | 第21页 |
| ·应用到一氧化碳氧化反应 | 第21-25页 |
| ·作为活性组分 | 第22-24页 |
| ·作为活性载体 | 第24-25页 |
| ·本论文的研究内容 | 第25-27页 |
| 第2章 实验部分 | 第27-34页 |
| ·实验原料与试剂 | 第27-28页 |
| ·实验仪器与装置 | 第28-29页 |
| ·催化剂的制备 | 第29-30页 |
| ·微乳液法制备 CeO_2催化剂 | 第29页 |
| ·溶剂热法制备 CeO_2催化剂 | 第29-30页 |
| ·pH 调节法合成不同金属负载的 CeO_2催化剂 | 第30页 |
| ·催化剂的表征 | 第30-33页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第30-31页 |
| ·N2吸附-脱附等温线 | 第31页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第31页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第31页 |
| ·电感耦合等离子体发射光谱（ICP-OES） | 第31页 |
| ·紫外可见漫反射光谱（UV-vis） | 第31页 |
| ·激光拉曼光谱（Raman） | 第31-32页 |
| ·H_2程序升温还原（H_2-TPR） | 第32页 |
| ·CO 程序升温还原（CO-TPR） | 第32页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第32-33页 |
| ·一氧化碳氧化性能评价 | 第33-34页 |
| 第3章 不同形貌的 CeO_2材料的制备及其催化性能 | 第34-52页 |
| ·不同形貌的 CeO_2材料的表征 | 第34-43页 |
| ·SEM 表征 | 第34-38页 |
| ·热分析 | 第38-39页 |
| ·XRD 表征 | 第39页 |
| ·Raman 表征 | 第39-41页 |
| ·UV-vis 表征 | 第41-42页 |
| ·H_2-TPR 表征 | 第42-43页 |
| ·CuO 修饰的 CeO_2材料的表征 | 第43-48页 |
| ·XRD 表征 | 第43-44页 |
| ·Raman 表征 | 第44-45页 |
| ·UV-vis 表征 | 第45-47页 |
| ·H_2-TPR 表征 | 第47-48页 |
| ·催化一氧化碳氧化性能 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 不同金属修饰的 CeO_2材料及催化性能 | 第52-73页 |
| ·CuO 修饰的 CeO_2材料的表征 | 第52-66页 |
| ·SEM 表征 | 第52-53页 |
| ·XRD 表征 | 第53-55页 |
| ·N_2吸附-脱附表征 | 第55-56页 |
| ·TEM 表征 | 第56-57页 |
| ·XPS 表征 | 第57-59页 |
| ·Raman 表征 | 第59-61页 |
| ·UV-vis 表征 | 第61-62页 |
| ·H_2-TPR 表征 | 第62-64页 |
| ·CO-TPR 表征 | 第64-65页 |
| ·O_2-TPD 表征 | 第65-66页 |
| ·催化一氧化碳氧化性能 | 第66-68页 |
| ·其他金属修饰的 CeO_2材料及其催化性能 | 第68-72页 |
| ·XRD 表征 | 第68页 |
| ·Raman 表征 | 第68-70页 |
| ·H_2-TPR 表征 | 第70页 |
| ·催化一氧化碳氧化的性能 | 第70-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-84页 |
| 致谢 | 第84页 |