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808 nm分布反馈半导体激光器的光栅制备与研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-7页
第一章 绪论第7-12页
   ·论文的研究背景和意义第7-8页
   ·国内外研究现状第8-11页
   ·本论文的主要工作第11-12页
第二章 Bragg光栅及DFB-LD的相关理论第12-24页
   ·Bragg光栅的基本原理第12页
   ·DFB-LD的基本理论第12-18页
   ·DFB-LD的工作原理第18-20页
   ·DFB-LD的类型第20-23页
   ·本章小结第23-24页
第三章 Bragg光栅的制备技术第24-34页
   ·Bragg光栅的光刻技术第24-30页
   ·Bragg光栅的刻蚀技术第30-33页
   ·本章小结第33-34页
第四章 808nm DFB-LD内置Bragg光栅的设计、制备与表征第34-48页
   ·808nm DFB-LD内置Bragg光栅的实验设计第34-37页
   ·808nm DFB-LD内置Bragg光栅的制备工艺第37-39页
   ·808nm DFB-LD中二阶Bragg光栅的制备第39-42页
   ·808nm DFB-LD器件的制备第42-43页
   ·808nm内置二阶Bragg光栅的DFB-LD的测试与分析第43-47页
   ·本章小结第47-48页
第五章 总结与展望第48-49页
致谢第49-50页
参考文献第50-51页

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