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氧化亚铜薄膜的电化学沉积及其光电性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-8页
目录第8-10页
第一章 绪论第10-25页
   ·前言第10-12页
     ·课题研究背景第10页
     ·太阳能电池发展历程第10-12页
   ·太阳能电池的工作原理第12-13页
   ·氧化亚铜简介第13-18页
     ·氧化亚铜的基本性质第13-14页
     ·氧化亚铜薄膜的制备方法第14-16页
     ·氧化亚铜的应用第16-18页
   ·半导体的光电化学性能研究第18-23页
     ·半导体光电化学特性机理第18-21页
     ·半导体光电化学性能的影响因素第21-23页
   ·论文的主要内容和意义第23-25页
第二章 实验部分第25-35页
   ·实验主要试剂与仪器第25-26页
     ·实验所用的主要试剂第25页
     ·实验所用的主要仪器第25-26页
   ·Cu_2O 薄膜的制备第26-29页
     ·制备方法第26-28页
     ·实验过程第28-29页
   ·材料的表征第29-32页
     ·X 射线衍射仪(XRD)第29-30页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第30-31页
     ·紫外-可见光透射光谱测试(UV-Vis)第31-32页
   ·光电化学性能测试第32-35页
     ·瞬态光电流响应测试第33-34页
     ·电容-电压特性(C-V)第34-35页
第三章 Cu_2O 薄膜结构性能研究第35-47页
   ·引言第35页
   ·实验过程第35-36页
   ·实验结果与讨论第36-46页
     ·电沉积 Cu_2O 薄膜原理第36页
     ·沉积溶液 pH 值对 Cu_2O 薄膜结构性能的影响第36-41页
     ·热处理对 Cu_2O 薄膜结构性能的影响第41-46页
   ·小结第46-47页
第四章 Cu_2O 薄膜的光学和光电化学性能研究第47-65页
   ·引言第47页
   ·实验过程第47-48页
   ·实验结果与讨论第48-64页
     ·沉积溶液 pH 值对 Cu_2O 薄膜光学性能的影响第48-50页
     ·热处理对 Cu_2O 薄膜光学性能的影响第50-51页
     ·沉积溶液 pH 值对 Cu_2O 薄膜电容-电压性能的影响第51-55页
     ·热处理对 Cu_2O 薄膜电容-电压性能的影响第55-58页
     ·沉积溶液 pH 值对 Cu_2O 薄膜瞬态光电流响应的影响第58-60页
     ·热处理对 Cu_2O 薄膜瞬态光电流响应的影响第60-64页
   ·小结第64-65页
第五章 结论与展望第65-67页
参考文献第67-72页
攻读硕士学位期间发表的论文集申请的专利情况第72-73页
致谢第73页

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