| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-9页 |
| ·课题研究背景 | 第7-8页 |
| ·论文研究背景 | 第8页 |
| ·论文研究内容 | 第8-9页 |
| 第二章 薄膜的基本理论 | 第9-19页 |
| ·单层介质薄膜 | 第9-10页 |
| ·单层介质膜 | 第10-12页 |
| ·多层介质膜 | 第12-13页 |
| ·对称膜系的等效层 | 第13-15页 |
| ·干涉截止滤光片 | 第15-19页 |
| 第三章 膜料的选择 | 第19-22页 |
| 第四章 膜系设计 | 第22-26页 |
| 第五章 镀膜设备 | 第26-33页 |
| ·真空系统 | 第26-27页 |
| ·离子辅助淀积系统 | 第27-28页 |
| ·膜层监控系统 | 第28-33页 |
| 第六章 薄膜制备 | 第33-41页 |
| ·试验流程 | 第33-39页 |
| ·环境测试 | 第39-40页 |
| ·误差分析 | 第40-41页 |
| 结论 | 第41-42页 |
| 致谢 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-44页 |