| 摘要 | 第1-11页 |
| Abstract | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-20页 |
| ·抗生素 | 第14-16页 |
| ·抗生素及其危害 | 第14页 |
| ·抗生素残留检测方法研究现状 | 第14-16页 |
| ·分子印迹技术 | 第16-17页 |
| ·分子印迹技术的原理以及分子印迹聚合物的制备 | 第16页 |
| ·分子印迹技术在传感领域中的应用 | 第16-17页 |
| ·壳聚糖的性质及应用 | 第17-18页 |
| ·本论文研究思路 | 第18-20页 |
| 第二章 基于纳米金分子印迹聚合物膜和壳聚糖-铂纳米粒子/石墨烯-纳米金复合材料的分子印迹电化学传感器检测红霉素 | 第20-32页 |
| ·实验 | 第20-24页 |
| ·试剂与仪器 | 第20-21页 |
| ·CS-PtNPs 复合物的制备 | 第21-22页 |
| ·制备 GR-AuNPs 复合物 | 第22-23页 |
| ·分子印迹和非印迹传感器的构建过程 | 第23页 |
| ·电化学测量 | 第23-24页 |
| ·结果与讨论 | 第24-31页 |
| ·分子印迹传感器构建过程的电化学检测 | 第24-25页 |
| ·模板分子洗脱效果的表征 | 第25-26页 |
| ·电聚合 MIPs 的扫描圈数优化 | 第26-27页 |
| ·模板分子与功能单体比例的优化选择 | 第27-28页 |
| ·传感器孵化时间优化 | 第28页 |
| ·传感器的线性范围与最低检测限 | 第28-29页 |
| ·分子印迹传感器的选择性研究 | 第29-30页 |
| ·再现性，重复性及稳定性研究 | 第30页 |
| ·实际样品的加标检测 | 第30-31页 |
| ·结论 | 第31-32页 |
| 第三章 壳聚糖-多壁碳纳米管复合物多层膜结合金纳米粒子构建土霉素分子印迹电化学传感器 | 第32-42页 |
| ·实验 | 第32-34页 |
| ·实验试剂 | 第32页 |
| ·仪器设备 | 第32-33页 |
| ·金电极预处理 | 第33页 |
| ·CS-MWCNTs 复合物的制备 | 第33页 |
| ·制备 AuNPs | 第33页 |
| ·分子印迹和非印迹传感器的构建过程 | 第33-34页 |
| ·电化学测量 | 第34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-41页 |
| ·传感器修饰材料的优化选择 | 第34-35页 |
| ·CS-MWCNTs 复合物修饰层数的探索 | 第35-36页 |
| ·土霉素分子印迹传感器的电化学检测 | 第36-37页 |
| ·模板分子洗脱效果的表征 | 第37页 |
| ·模板分子与功能单体比例的优化选择 | 第37-38页 |
| ·传感器的校准曲线 | 第38-39页 |
| ·分子印迹传感器的选择性研究 | 第39-40页 |
| ·传感器的重复性、再现性及稳定性研究 | 第40-41页 |
| ·实际样品检测 | 第41页 |
| ·结论 | 第41-42页 |
| 第四章 基于β环糊精-碳纳米管复合物、纳米金-聚酰胺胺树形分子复合物和壳聚糖衍生物的分子印迹电化学传感器检测金霉素 | 第42-52页 |
| ·实验 | 第42-45页 |
| ·试剂与仪器 | 第42-43页 |
| ·CD-MWCNTs 复合物的制备 | 第43页 |
| ·制备 Au-PAMAM 复合物 | 第43页 |
| ·壳聚糖衍生物（CSDT）的制备 | 第43-44页 |
| ·分子印迹和非印迹传感器的构建过程 | 第44页 |
| ·电化学测量 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-51页 |
| ·电极修饰过程的循环伏安测定 | 第45页 |
| ·电极修饰材料优化 | 第45-47页 |
| ·模板分子功能单体比例优化 | 第47页 |
| ·干燥 MIPs 时的温度优化 | 第47-48页 |
| ·传感器校准曲线 | 第48-49页 |
| ·分子印迹传感器的选择性研究 | 第49-50页 |
| ·传感器的再现性，重复性及稳定性分析 | 第50-51页 |
| ·实际样品检测 | 第51页 |
| ·结论 | 第51-52页 |
| 第五章 基于四氧化三铁-多壁碳纳米管-二氧化硅-壳聚糖复合物和壳聚糖-石墨烯-纳米金复合物的分子印迹电化学传感器检测四环素 | 第52-64页 |
| ·实验 | 第52-55页 |
| ·实验试剂 | 第52页 |
| ·实验仪器 | 第52-53页 |
| ·Fe3O4-MWCNTs-SiO2-CS 复合物的制备 | 第53页 |
| ·Gr-AuNPs-CS 复合物的制备 | 第53-54页 |
| ·分子印迹和非印迹传感器的构建过程 | 第54-55页 |
| ·电化学测量 | 第55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-62页 |
| ·电极修饰过程的循环伏安测定 | 第55-56页 |
| ·电极修饰材料优化 | 第56-58页 |
| ·电聚合 MIPs 的扫描圈数优化 | 第58-59页 |
| ·模板分子功能单体比例优化 | 第59页 |
| ·传感器校准曲线 | 第59-60页 |
| ·分子印迹传感器的选择性研究 | 第60-61页 |
| ·传感器的重复性，再现性及稳定性分析 | 第61页 |
| ·实际样品检测 | 第61-62页 |
| ·结论 | 第62-64页 |
| 第六章 以新霉素分子印迹膜为识别元件结合壳聚糖-纳米银/石墨烯-碳纳米管复合物构建新霉素电化学传感器 | 第64-76页 |
| ·实验 | 第64-66页 |
| ·试剂 | 第64页 |
| ·仪器 | 第64页 |
| ·CS-SNP 复合物的制备 | 第64-65页 |
| ·制备 GR-MWCNTs 复合物 | 第65页 |
| ·分子印迹和非印迹传感器的构建过程 | 第65-66页 |
| ·电化学测量 | 第66页 |
| ·结果与讨论 | 第66-74页 |
| ·分子印迹传感器构建过程的电化学检测 | 第66-68页 |
| ·电极修饰过程的 SEM | 第68-69页 |
| ·电聚合 MIPs 的扫描圈数优化 | 第69-70页 |
| ·模板分子与功能单体比例的优化选择 | 第70-71页 |
| ·传感器洗脱时间优化 | 第71页 |
| ·传感器孵化时间优化 | 第71-72页 |
| ·传感器的校准曲线 | 第72页 |
| ·分子印迹传感器的选择性研究 | 第72-73页 |
| ·传感器的再现性，重复性及稳定性研究 | 第73-74页 |
| ·实际样品加标检测 | 第74页 |
| ·结论 | 第74-76页 |
| 第七章 结论与展望 | 第76-78页 |
| ·结论 | 第76页 |
| ·展望 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 致谢 | 第86-88页 |
| 附录 | 第88页 |
