| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-46页 |
| 第一节 有机场效应晶体管简介 | 第10-17页 |
| ·有机场效应晶体管的发展现状 | 第10-12页 |
| ·有机场效应晶体管的基本结构及工作机理 | 第12-14页 |
| ·有机场效应晶体管的基本性能参数 | 第14-15页 |
| ·有机场效应晶体管器件的制备方法 | 第15-17页 |
| 第二节 p 型噻吩类化合物在有机场效应晶体管中的应用 | 第17-30页 |
| ·p 型有机半导体材料在 OFETs 中的应用 | 第17-20页 |
| ·p 型噻吩类小分子化合物在 OFETs 中的应用 | 第20-30页 |
| 第三节 n 型噻吩类化合物在有机场效应晶体管中的应用 | 第30-36页 |
| ·n 型低聚噻吩化合物在有机场效应晶体管中的应用 | 第31-34页 |
| ·n 型稠环噻吩化合物在有机场效应晶体管中的应用 | 第34-36页 |
| 第四节 课题内容及研究思路 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-46页 |
| 第二章 二噻吩并[2,3-b:3',2'-d]噻吩衍生物的纯化和单晶结构分析 | 第46-60页 |
| 第一节 二噻吩并[2,3-b:3',2'-d]噻吩衍生物的热稳定性分析 | 第46-47页 |
| 第二节 二噻吩并[2,3-b:3',2'-d]噻吩衍生物的纯化 | 第47-51页 |
| ·梯度升华装置及原理 | 第48-49页 |
| ·二噻吩并[2,3-b:3',2'-d]噻吩衍生物的提纯 | 第49-51页 |
| 第三节 二噻吩并[2,3-b:3',2'-d]噻吩衍生物的晶体结构 | 第51-57页 |
| ·化合物 DP-DTT 的单晶结构分析 | 第52-53页 |
| ·化合物 DEP-DTT 的单晶结构分析 | 第53-54页 |
| ·化合物 DBP-DTT 的单晶结构分析 | 第54-55页 |
| ·化合物 DDTT-EP 的单晶结构分析 | 第55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-57页 |
| 第四节 本章小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 第三章 二噻吩并[2,3-b:3',2'-d]噻吩衍生物薄膜的光电性质 | 第60-82页 |
| 第一节 二噻吩并[2,3-b:3',2'-d]噻吩衍生物薄膜的制备和形貌分析 | 第60-72页 |
| ·高真空多元镀膜仪 | 第60-63页 |
| ·二噻吩并[2,3-b:3',2'-d]噻吩衍生物薄膜的制备 | 第63-64页 |
| ·二噻吩并[2,3-b:3',2'-d]噻吩衍生物的薄膜形貌分析 | 第64-72页 |
| 第二节 二噻吩并[2,3-b:3',2'-d]噻吩衍生物薄膜的光电性质 | 第72-77页 |
| ·二噻吩并[2,3-b:3 ,2 -d]噻吩衍生物薄膜的光学性质 | 第72-74页 |
| ·二噻吩并[2,3-b:3 ,2 -d]噻吩衍生物薄膜的电化学性质 | 第74-77页 |
| 第三节 本章小结 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-82页 |
| 第四章 二噻吩并[2,3-b:3',2'-d]噻吩衍生物的场效应性能 | 第82-94页 |
| 第一节 器件的加工和性能的测试 | 第82-90页 |
| ·器件的加工 | 第82-84页 |
| ·场效应性能的测试 | 第84-90页 |
| 第二节 数据结果及讨论 | 第90-92页 |
| 第三节 本章小结 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-94页 |
| 结束语 | 第94-96页 |
| 致谢 | 第96-97页 |
