200℃以下辐射温度计校准及发射率测量技术的研究
致谢 | 第1-6页 |
摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
目次 | 第9-12页 |
图清单 | 第12-13页 |
表清单 | 第13-14页 |
1 绪论 | 第14-26页 |
·问题的提出和研究意义 | 第14-17页 |
·国内外文献综述 | 第17-21页 |
·发射率测量技术的研究现状 | 第17-20页 |
·辐射测温法概述 | 第20-21页 |
·辐射温度计校准及发射率测量技术待解决的问题 | 第21-23页 |
·辐射温度计校准待解决的问题 | 第21-22页 |
·发射率测量技术待解决的问题 | 第22-23页 |
·本论文主要内容 | 第23-26页 |
2 发射率测量与辐射测温的理论基础 | 第26-37页 |
·发射率的基本概念与定义 | 第26-27页 |
·黑体辐射基本理论 | 第27-28页 |
·普朗克定律 | 第27页 |
·维恩位移定律 | 第27-28页 |
·斯忒藩-玻尔兹曼定律 | 第28页 |
·辐射温度计测温原理和表观温度 | 第28-30页 |
·亮度温度 | 第29页 |
·辐射温度 | 第29页 |
·比色温度 | 第29-30页 |
·黑体空腔理论 | 第30-36页 |
·本章小结 | 第36-37页 |
3 200℃以下辐射温度计校准的实验研究 | 第37-46页 |
·黑体涂层表面发射率对辐射温度计校准的研究 | 第37-39页 |
·确定辐射温度计校准的最佳工作距离实验研究 | 第39-41页 |
·辐射源尺寸效应(SSE)对辐射温度计校准的影响 | 第41-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
4 发射率测量系统 | 第46-57页 |
·发射率测量的原理 | 第46-47页 |
·发射率测量装置 | 第47-52页 |
·标准黑体辐射源 | 第48-49页 |
·探测器 | 第49-50页 |
·被测样品加热系统 | 第50-52页 |
·软件系统设计 | 第52-55页 |
·温度控制系统 | 第53-54页 |
·数据处理系统 | 第54-55页 |
·本章小结 | 第55-57页 |
5 发射率测量实验及分析 | 第57-66页 |
·样品的选择与制备 | 第57-58页 |
·样品控温的稳定性和均匀性 | 第58-59页 |
·控温稳定性测试 | 第58-59页 |
·控温均匀性测试 | 第59页 |
·不同温度下材料发射率测量的实验 | 第59-64页 |
·不同温度下三种金属材料表面发射率的测量结果 | 第60-61页 |
·不同温度下两种非金属材料表面发射率的测量结果 | 第61-64页 |
·不同温度下样品发射率引起辐射温度计误差分析 | 第64-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
6 不确定度评定 | 第66-71页 |
·发射率测量的数学模型 | 第66-69页 |
·黑体辐射源温度变化对发射率测量精度的影响 | 第66-67页 |
·被测样品温度变化对发射率测量精度的影响 | 第67-68页 |
·环境温度变化对发射率测量精度的影响 | 第68-69页 |
·黑体空腔有效发射率引入的标准不确定度u_b | 第69页 |
·合成标准不确定度 | 第69-70页 |
·本章小结 | 第70-71页 |
7 总结与展望 | 第71-74页 |
·总结 | 第71-73页 |
·展望 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-77页 |
作者简历 | 第77页 |