| 提要 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-67页 |
| ·铁电性 | 第13-18页 |
| ·铁电体的基本概念 | 第13页 |
| ·铁电材料的发展历史 | 第13页 |
| ·相关概念介绍 | 第13-15页 |
| ·居里-外斯定律 | 第15-16页 |
| ·铁电体的研究热点 | 第16-18页 |
| ·磁性 | 第18-29页 |
| ·磁性和磁性材料的分类 | 第18-23页 |
| ·抗磁性 | 第18-19页 |
| ·顺磁性 | 第19-20页 |
| ·反铁磁性 | 第20-21页 |
| ·铁磁性 | 第21-23页 |
| ·亚铁磁性 | 第23页 |
| ·磁滞回线 | 第23-25页 |
| ·容忍因子和半径失配 | 第25页 |
| ·John-Teller 效应 | 第25-26页 |
| ·自旋倾斜 | 第26-27页 |
| ·自旋玻璃 | 第27-29页 |
| ·多铁 | 第29-52页 |
| ·多铁性和磁电耦合效应 | 第31-34页 |
| ·多铁性 | 第31-33页 |
| ·铁电性和磁性共存的可行性分析 | 第33-34页 |
| ·铁电磁体中铁电性和磁性共存机制研究 | 第34-44页 |
| ·ns~2孤对电子导致多铁性 | 第34-36页 |
| ·电荷有序 | 第36页 |
| ·六方结构的锰氧化物的铁电性 | 第36-37页 |
| ·非共线螺旋状自旋序导致的铁电性 | 第37-41页 |
| ·电子铁电性 | 第41-44页 |
| ·其它较为常见的多铁型材料 | 第44-52页 |
| ·正交结构 RMnO_3(R=Gd, Tb and Dy) | 第44-45页 |
| ·正交结构 RMn2O_5(R = Y, Tb, Ho, Er and Tm) | 第45-46页 |
| ·立方（Fd3m）尖晶石结构 ACr_2X_4（A=Co, Zn, Gd，Hg and X=O, S，Se） | 第46-48页 |
| ·磁铅矿结构六方 Ba_(2-x)Sr_xZn_2Fe_(12)O_(22) | 第48-50页 |
| ·Kagome staircase 结构 Ni3V2O8 | 第50-51页 |
| ·钨锰铁矿结构 MnWO_4 | 第51-52页 |
| ·本课题选题的目的、意义和主要结果 | 第52-54页 |
| ·本课题选题的目的及意义 | 第52页 |
| ·本课题的主要结果 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-67页 |
| 第二章 单相多铁氧化物 YFeO_3的水热合成与性质表征 | 第67-107页 |
| ·引言 | 第67-70页 |
| ·YFeO_3的水热合成以及性质表征 | 第70-100页 |
| ·合成方法与条件 | 第70-73页 |
| ·实验试剂与检测仪器 | 第70-72页 |
| ·实验试剂 | 第70页 |
| ·实验测试仪器与测试条件 | 第70-72页 |
| ·YFeO_3样品的水热合成方法 | 第72-73页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第73-75页 |
| ·扫描电子电镜分析（SEM） | 第75-77页 |
| ·X 射线能量色散谱（EDX） | 第77-78页 |
| ·X 射线能谱（XPS） | 第78-80页 |
| ·粉末样品的磁性分析 | 第80-82页 |
| ·YFeO_3样品的热分析（DSC） | 第82-84页 |
| ·YFeO_3介电性质与电极化性质研究 | 第84-100页 |
| ·介电谱介绍 | 第84-87页 |
| ·关于电容器测量模式的选择 | 第87-89页 |
| ·YFeO_3 的介电测试与分析 | 第89-100页 |
| ·电容器的制备 | 第89页 |
| ·样品的介电常数随频率变化谱图 | 第89-91页 |
| ·YFeO_3样品的电极化测量 | 第91-100页 |
| ·关于铁电测试的基本原理 | 第91-94页 |
| ·样品的铁电测试 | 第94-96页 |
| ·双波法（PUND）测量电滞回线 | 第96-100页 |
| ·本章小结 | 第100-101页 |
| 参考文献 | 第101-107页 |
| 第三章 YFeO_3氧化物薄膜的制备与性质研究 | 第107-121页 |
| ·引言 | 第107-110页 |
| ·脉冲激光沉积技术的特点 | 第107-108页 |
| ·脉冲激光沉积技术的基本实验步骤 | 第108页 |
| ·脉冲激光沉积技术（PLD）的最新发展 | 第108-110页 |
| ·YFeO_3薄膜的制备与性能表征 | 第110-117页 |
| ·YFeO_3薄膜的制备与靶材制作过程 | 第110-111页 |
| ·靶材制作 | 第110页 |
| ·薄膜制备 | 第110-111页 |
| ·YFeO_3薄膜样品的物性表征： | 第111-117页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第111页 |
| ·薄膜的电镜照片（SEM） | 第111-113页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第113-114页 |
| ·EDX 能谱 | 第114-115页 |
| ·磁性数据 | 第115-117页 |
| ·本章小结 | 第117-118页 |
| 参考文献 | 第118-121页 |
| 第四章 结论与展望 | 第121-123页 |
| 作者简历 | 第123页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第123-125页 |
| 致谢 | 第125页 |
