镧锶锰氧薄膜的制备与相变特性研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| ·可变发射率材料的需求 | 第7-8页 |
| ·可变发射率热控材料的研究进展 | 第8-9页 |
| ·LSMO材料研究概况 | 第9页 |
| ·LSMO材料的晶体结构 | 第9-11页 |
| ·双交换作用 | 第11-12页 |
| ·畸变效应 | 第12-14页 |
| ·Jahn-Teller畸变 | 第12-13页 |
| ·A位和B位离子半径不匹配导致的晶格畸变 | 第13-14页 |
| ·电磁结构相图 | 第14-15页 |
| ·本论文选题依据与主要研究内容 | 第15-17页 |
| ·选题依据 | 第15-16页 |
| ·主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 LSMO薄膜材料的制备工艺研究 | 第17-32页 |
| ·LSMO薄膜材料的常用制备方法 | 第17-19页 |
| ·LSMO薄膜材料的制备与表征 | 第19-22页 |
| ·LSMO薄膜制备工艺过程 | 第19-20页 |
| ·结构与性能表征 | 第20-22页 |
| ·溅射工艺研究 | 第22-31页 |
| ·溅射用靶材 | 第22-24页 |
| ·基底材料的选择 | 第24页 |
| ·掺杂组分对薄膜晶体结构的影响 | 第24-26页 |
| ·厚度对薄膜晶体结构的影响 | 第26-27页 |
| ·溅射条件对薄膜成分的影响 | 第27-29页 |
| ·LSMO薄膜的常温电学性能 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 LSMO薄膜的相变特性研究 | 第32-44页 |
| ·LSMO薄膜的高低温电学性能 | 第32-34页 |
| ·LSMO薄膜的磁学相变性能 | 第34-36页 |
| ·LSMO薄膜的高低温热学性能 | 第36-39页 |
| ·变温发射率测试方法 | 第36-37页 |
| ·变温发射率测试结果与分析 | 第37-39页 |
| ·LSMO薄膜的相变关联性分析 | 第39-43页 |
| ·LSMO薄膜的相分离本质 | 第39-41页 |
| ·LSMO薄膜相变的关联特征 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 结论与展望 | 第44-46页 |
| ·主要结论 | 第44-45页 |
| ·研究展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-50页 |
| 在学期间的研究成果 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |
