氧化锌衬底上CVD方法制备石墨烯研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
目录 | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第9-17页 |
·引言 | 第9-10页 |
·石墨烯的结构 | 第10-12页 |
·石墨烯的基本性质 | 第12-14页 |
·石墨烯的电学性质 | 第12-13页 |
·石墨烯的热力学性质 | 第13页 |
·石墨烯的光学性质 | 第13页 |
·石墨烯的磁学性能 | 第13-14页 |
·石墨烯的应用前景 | 第14-15页 |
·本课题提出的意义与研究内容 | 第15-17页 |
第二章 实验与表征原理 | 第17-26页 |
·石墨烯的制备方法 | 第17-19页 |
·微机械剥离法 | 第17页 |
·氧化石墨还原法 | 第17页 |
·外延生长法 | 第17-18页 |
·化学气相沉积法 | 第18-19页 |
·其他方法 | 第19页 |
·实验原理 | 第19-22页 |
·CVD 方法制备石墨烯的基本原理 | 第19-20页 |
·磁控溅射制备氧化锌的基本原理 | 第20-22页 |
·表征原理 | 第22-26页 |
·XRD 的基本原理 | 第22页 |
·SEM 的基本原理 | 第22-23页 |
·Raman 光谱分析 | 第23-24页 |
·AFM 的基本原理 | 第24-25页 |
·TEM 的基本原理 | 第25-26页 |
第三章 氧化锌基底的磁控溅射制备及分析 | 第26-36页 |
·氧化锌概述 | 第26-28页 |
·氧化锌的结构 | 第26页 |
·氧化锌的性质 | 第26-27页 |
·氧化锌的制备 | 第27页 |
·氧化锌的应用 | 第27-28页 |
·氧化锌作为基底的意义 | 第28页 |
·磁控溅射制备氧化锌 | 第28-30页 |
·硅片的清洗 | 第29页 |
·实验步骤 | 第29-30页 |
·氧化锌薄膜的形成与生长 | 第30-31页 |
·氧化锌薄膜的形成过程 | 第30-31页 |
·氧化锌的择优生长 | 第31页 |
·氧化锌薄膜的表征与分析 | 第31-36页 |
·不同溅射功率对薄膜的影响 | 第32页 |
·氧化锌薄膜的厚度 | 第32-33页 |
·氧化锌薄膜的晶体结构 | 第33-34页 |
·氧化锌薄膜的表面形貌 | 第34-36页 |
第四章 在氧化锌基底上 CVD 法制备石墨烯 | 第36-48页 |
·苯作为碳前驱体的意义 | 第36页 |
·在氧化锌基底上 CVD 法制备石墨烯 | 第36-42页 |
·实验步骤 | 第36-37页 |
·实验条件探索 | 第37-42页 |
·石墨烯的表征 | 第42-46页 |
·扫描电镜分析 | 第42-43页 |
·原子力显微镜分析 | 第43-44页 |
·石墨烯转移后的拉曼表征 | 第44-45页 |
·石墨烯的透射电镜分析 | 第45-46页 |
·石墨烯的生长机理分析 | 第46-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
第五章 总结与展望 | 第48-50页 |
参考文献 | 第50-57页 |
致谢 | 第57-58页 |
硕士期间所发表的论文 | 第58页 |