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基于红外白光干涉技术的MEMS器件形貌测试方法研究

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第一章 绪论第9-16页
   ·课题研究背景及意义第9-11页
   ·国内外研究现状第11-14页
   ·本论文研究内容的提出第14-16页
第二章 测试理论和系统设计第16-25页
   ·干涉光路分析第16-18页
   ·红外干涉形貌测试原理第18-20页
     ·垂直扫描技术第18-20页
     ·红外透射原理第20页
   ·MEMS形貌测试系统设计第20-24页
   ·本章小结第24-25页
第三章 红外白光算法及干涉软件设计研究第25-39页
   ·传统白光干涉算法分析第25-27页
     ·白光垂直扫描干涉算法(VSI)原理第25-26页
     ·移相干涉原理(PSI)第26-27页
   ·白光干涉算法分析第27-31页
     ·VSI和PSI的组合算法原理第27-28页
     ·SEST算法原理第28-29页
     ·白光干涉光谱测厚原理第29-31页
   ·红外白光干涉测试算法研究第31-32页
   ·系统软件设计第32-37页
     ·算法设计第32-33页
     ·界面设计第33-37页
   ·本章小结第37-39页
第四章 测试方法验证及误差分析第39-63页
   ·测试方法验证第39-51页
     ·典型微结构设计第40-42页
     ·反射干涉测试方法验证第42-45页
     ·透射干涉透射补偿测试方法验证第45-50页
     ·测试结果对比第50-51页
   ·系统性能标定第51-53页
   ·系统误差分析第53-62页
     ·滤波第53-55页
     ·插值第55-57页
     ·干涉补偿分析第57-62页
   ·本章小结第62-63页
第五章 总结与展望第63-65页
   ·全文总结第63页
   ·展望第63-65页
参考文献第65-69页
攻读硕士期间发表的论文及所取得的研究成果第69-70页
致谢第70页

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