| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-19页 |
| ·钛及其合金在生物医学领域的应用 | 第8-10页 |
| ·牙缺失及金属烤瓷修复 | 第10-13页 |
| ·金属烤瓷冠的结构 | 第10-11页 |
| ·钛及其合金烤瓷冠 | 第11-13页 |
| ·微弧氧化技术及其在生物医学领域的应用现状 | 第13-16页 |
| ·微弧氧化在生物医学领域的应用 | 第15-16页 |
| ·钛及其合金传统着色方法 | 第16-17页 |
| ·氧化膜的发色机理 | 第16页 |
| ·传统氧化着色方法 | 第16-17页 |
| ·选题背景和研究内容 | 第17-19页 |
| ·选题背景和研究意义 | 第17-18页 |
| ·研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 试验材料与试验方法 | 第19-23页 |
| ·微弧氧化试验装置 | 第19-20页 |
| ·试验基体材料及试剂 | 第20页 |
| ·实验操作流程 | 第20-21页 |
| ·分析测试方法 | 第21-23页 |
| ·微弧氧化膜层形貌、成分及相组成测试分析 | 第21-22页 |
| ·膜层基本性能测试 | 第22-23页 |
| 第3章 溶液体系的选择及对膜层显微组织的影响 | 第23-44页 |
| ·电解液体系成分的确定 | 第23-25页 |
| ·主盐体系的选择 | 第23-24页 |
| ·着色离子的的选择 | 第24-25页 |
| ·Na_3PO_4- FeSO_4- Ce(NO_3)_3-Mg(CH_3COO)_2 体系 | 第25-39页 |
| ·FeSO_4 浓度对微弧氧化膜层显微组织及结合强度的影响 | 第25-30页 |
| ·Ce(NO_3)_3 浓度对膜层显微组织的影响 | 第30-39页 |
| ·K_2ZrF_6- Fe5O_4- Ce(NO_3)_3 体系 | 第39-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第4章 电源参数对膜层显微组织及结合强度的影响 | 第44-60页 |
| ·正相电压对膜层显微组织及结合强度的影响 | 第44-49页 |
| ·正相电压对微弧氧化电流密度的影响 | 第44-45页 |
| ·正相电压对膜层相结构的影响 | 第45页 |
| ·正相电压对膜层表面及截面形貌的影响 | 第45-48页 |
| ·正相电压对膜层与基体结合强度的影响 | 第48-49页 |
| ·负相电压对膜层显微组织及结合强度的影响 | 第49-54页 |
| ·负相电压对微弧氧化电流密度的影响 | 第49-50页 |
| ·负相电压对膜层相结构的影响 | 第50-51页 |
| ·负相电压对膜层表面及截面形貌的影响 | 第51-54页 |
| ·负相电压对膜层与基体结合强度的影响 | 第54页 |
| ·脉冲频率对氧膜层的显微组织及结合的影响 | 第54-59页 |
| ·脉冲频率对微弧氧化电流密度的影响 | 第55页 |
| ·脉冲频率对膜层相结构的影响 | 第55-56页 |
| ·脉冲频率对膜层表面及截面形貌的影响 | 第56-58页 |
| ·脉冲频率对膜层与基体结合强度的影响 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 溶液组份及工艺参数对膜层颜色的影响 | 第60-74页 |
| ·陶瓷膜层的显色分析 | 第60-73页 |
| ·FeSO_4 的浓度对膜层颜色的影响 | 第60-63页 |
| ·Ce(NO_3)浓度对膜层颜色的影响 | 第63-67页 |
| ·电源参数对膜层颜色的影响 | 第67-70页 |
| ·K_2ZrF_6 体系下膜层颜色的分析 | 第70-72页 |
| ·氧化膜层颜色与自然牙颜色的比较 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
