| 第1章 文献综述 | 第1-15页 |
| ·序言 | 第8页 |
| ·ZnO的性质及应用 | 第8-12页 |
| ·ZnO的性质 | 第9页 |
| ·ZnO的应用 | 第9-12页 |
| ·晶体制备技术简介 | 第12-15页 |
| ·从熔体中生长晶体 | 第12-13页 |
| ·高温高压法生长晶体 | 第13-14页 |
| ·从气相中生长晶体 | 第14-15页 |
| 第2章 生长理论概述及化学气相反应原理 | 第15-21页 |
| ·生长机理概述 | 第15-17页 |
| ·晶体生长机理概述 | 第15-16页 |
| ·薄膜生长机理概述 | 第16-17页 |
| ·化学气相反应原理 | 第17-21页 |
| ·化学气相反应历史回顾 | 第17页 |
| ·化学气相反应方式 | 第17-19页 |
| ·化学气相反应过程 | 第19-21页 |
| 第3章 高温水解反应制备氧化物晶体和薄膜 | 第21-35页 |
| ·实验准备 | 第21-22页 |
| ·实验装置 | 第21-22页 |
| ·实验样品制备 | 第22页 |
| ·基片的清洗 | 第22页 |
| ·化学反应方式 | 第22页 |
| ·不同衬底上制备 ZnO晶体 | 第22-28页 |
| ·不同衬底上制备 ZnO薄膜 | 第28-31页 |
| ·氧化锌基片上制备ZnO薄膜 | 第28-30页 |
| ·蓝宝石基片上制备 ZnO薄膜 | 第30-31页 |
| ·高温水解制备 SnO_2和 Fe_2O_3复合薄膜 | 第31-33页 |
| ·石英基片上制备 SnO_2薄膜 | 第31-32页 |
| ·石英基片上制备 Fe_2O_3薄膜 | 第32-33页 |
| ·石英基片上制备 SnO_2和 Fe_2O_3复合薄膜 | 第33页 |
| ·本章结论 | 第33-35页 |
| 第4章 高温化学气相输运法制备氧化锌晶体 | 第35-54页 |
| ·实验准备 | 第35-36页 |
| ·实验装置 | 第35页 |
| ·实验样品制备 | 第35-36页 |
| ·基片的清洗 | 第35-36页 |
| ·实验操作 | 第36页 |
| ·高温化学气相输运制备氧化锌和氧化钴晶体 | 第36-43页 |
| ·用不同原料在不同衬底上制备 ZnO晶体 | 第37-40页 |
| ·用分析纯 ZnO原料制备ZnO晶体 | 第37-38页 |
| ·用高纯 ZnO原料制备 ZnO晶体 | 第38-40页 |
| ·不同衬底上制备氧化钴晶体 | 第40-42页 |
| ·粉体样品所得ZnO及 CoO晶体 | 第42-43页 |
| ·高温化学气相输运法制备 Zn_(1x)Co_xO晶体 | 第43-52页 |
| ·粉体样品所得 Zn_(1x)Co_xO晶体 | 第44-47页 |
| ·蓝宝石基片上合成 Zn_(1x)Co_xO晶体 | 第47-52页 |
| ·本章结论 | 第52-54页 |
| 第5章 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 附录 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
