中文摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-17页 |
第一章 绪论 | 第17-52页 |
·微型薄膜锂离子电池 | 第17-24页 |
·微型薄膜锂离子电池的提出 | 第17-19页 |
·微型薄膜锂离子电池的工作原理及构造 | 第19-20页 |
·薄膜锂离子电池的研究进展 | 第20-24页 |
·薄膜锂离子电池的常用材料 | 第24-37页 |
·锂离子电池的常用负极材料 | 第24-31页 |
·锂离子电池的常用电解质材料 | 第31-33页 |
·锂离子电池的常用正极材料 | 第33-37页 |
·微型锂离子电池的结构 | 第37-41页 |
·本论文主要研究内容 | 第41-43页 |
参考文献 | 第43-52页 |
第二章 氧化锡薄膜的磁控溅射制备与结构分析 | 第52-83页 |
·磁控溅射技术 | 第53-58页 |
·溅射技术简述 | 第53-54页 |
·磁控溅射原理 | 第54-56页 |
·磁控溅射的主要工艺参数及其对氧化锡薄膜的影响 | 第56-57页 |
·磁控溅射装置 | 第57-58页 |
·薄膜材料的表征技术 | 第58-63页 |
·X射线衍射技术(XRD) | 第58-59页 |
·扫描电子显微镜技术(SEM) | 第59-61页 |
·X射线光电子能谱技术(XPS) | 第61-63页 |
·氧化锡薄膜的制备 | 第63-65页 |
·硅片的预处理和氧化 | 第63-64页 |
·氧化锡薄膜样品的制备 | 第64-65页 |
·磁控溅射功率对氧化锡薄膜结构的影响 | 第65-71页 |
·XRD分析 | 第65-66页 |
·SEM分析 | 第66-69页 |
·XPS分析 | 第69-71页 |
·不同氧氩比对氧化锡薄膜结构的影响 | 第71-75页 |
·XRD分析 | 第71-72页 |
·SEM分析 | 第72-74页 |
·XPS分析 | 第74-75页 |
·磁控溅射衬底温度对氧化锡薄膜结构的影响 | 第75-78页 |
·XRD分析 | 第75-77页 |
·SEM分析 | 第77-78页 |
·XPS分析 | 第78页 |
·本章小结 | 第78-80页 |
参考文献 | 第80-83页 |
第三章 氧化锡薄膜的电化学性能 | 第83-111页 |
·化学电源的主要性能指标 | 第84-86页 |
·电池电动势 | 第84页 |
·电池的开路电压和工作电压 | 第84页 |
·电池的内阻 | 第84-85页 |
·电池的容量和比容量 | 第85页 |
·电池的能量和比能量 | 第85-86页 |
·电池的寿命 | 第86页 |
·电化学性能测试技术 | 第86-88页 |
·循环伏安法(CV) | 第86-87页 |
·恒电流充放电测试 | 第87-88页 |
·氧化锡电极材料的制备和电池组装 | 第88-92页 |
·硅片的预处理和氧化 | 第88页 |
·衬底的制备 | 第88-89页 |
·扣式电池的组装 | 第89-92页 |
·氧化锡电极的储锂机制 | 第92-93页 |
·磁控溅射制备的氧化锡薄膜的循环伏安测试 | 第93-96页 |
·不同溅射功率下制备的氧化锡电极的循环性能比较 | 第96-101页 |
·充放电曲线 | 第96-99页 |
·循环性能 | 第99-101页 |
·不同氧氩比气氛下制备的氧化锡电极的循环性能比较 | 第101-105页 |
·充放电曲线 | 第101-103页 |
·循环性能 | 第103-105页 |
·不同衬底温度上制备的氧化锡电极的循环性能比较 | 第105-107页 |
·充放电曲线 | 第105-106页 |
·循环性能 | 第106-107页 |
·本章小结 | 第107-109页 |
参考文献 | 第109-111页 |
第四章 微型锂离子电池的制备 | 第111-136页 |
·MEMS微加工工艺 | 第111-117页 |
·MEMS微加工简介 | 第111-115页 |
·MEMS微加工主要试剂和主要仪器 | 第115-117页 |
·LiCoO_2/LiPON/SnO_x微型薄膜锂离子电池的制备工艺 | 第117-132页 |
·材料选择 | 第117-118页 |
·结构设计 | 第118-120页 |
·版图设计 | 第120-121页 |
·制备工艺流程 | 第121-131页 |
·电池的封装 | 第131-132页 |
·LiCoO_2/LiPON/SnO_x微型薄膜锂电池的电化学性能 | 第132-134页 |
·本章小结 | 第134-135页 |
参考文献 | 第135-136页 |
第五章 工作总结和展望 | 第136-140页 |
·工作总结 | 第136-139页 |
·展望 | 第139-140页 |
作者攻读硕士学位期间发表论文 | 第140-141页 |
致谢 | 第141页 |