掺氮类金刚石（DLC：N）薄膜的制备及其性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 致谢 | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-22页 |
| ·研究的背景及意义 | 第13页 |
| ·类金刚石薄膜的制备方法 | 第13-17页 |
| ·离子束沉积 | 第14-15页 |
| ·过滤式阴极弧(FCVA)技术 | 第15页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)技术 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射 | 第16页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积(PECVD) | 第16-17页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的微结构研究 | 第17-20页 |
| ·氮在类金刚石薄膜中可能的成键方式 | 第17-19页 |
| ·轨道杂化方式和化学键的类型 | 第19-20页 |
| ·类金刚石薄膜的应用 | 第20-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第二章 磁控溅射原理与掺氮类金刚石薄膜性能表征 | 第22-35页 |
| ·磁控溅射的发展及原理 | 第22-28页 |
| ·磁控溅射的发展 | 第22页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第22-23页 |
| ·辉光放电 | 第23-25页 |
| ·溅射率 | 第25-28页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的表征 | 第28-34页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第28-29页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第29-30页 |
| ·傅立叶变换红外透射光谱(FTIR) | 第30-32页 |
| ·表面及截面形貌表征 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 未掺氮与掺氮类金刚石薄膜结构研究 | 第35-47页 |
| ·试验装置简介及工艺步骤 | 第35-38页 |
| ·磁控溅射设备简介 | 第35-38页 |
| ·工艺步骤 | 第38页 |
| ·实验过程 | 第38-39页 |
| ·未掺氮与掺氮类金刚石薄膜的结构及性能 | 第39-45页 |
| ·拉曼光谱(Raman)光谱对比 | 第39-41页 |
| ·X射线光电子能谱的对比 | 第41-42页 |
| ·形貌对比 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 掺氮类金刚石薄膜结构研究 | 第47-63页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的红外光谱 | 第47-48页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的X射线光电子能谱 | 第48-53页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的拉曼光谱 | 第53-57页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的形貌 | 第57-62页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的AFM形貌 | 第57-60页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的SEM表面及截面 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第69页 |
