Ti/TiN多层膜离子束辅助沉积工艺、结构及性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-27页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·多层膜的性能及其研究现状 | 第10-15页 |
| ·多层膜的硬度 | 第11-13页 |
| ·多层膜的摩擦磨损性能 | 第13-15页 |
| ·多层膜的热稳定性 | 第15页 |
| ·多层膜的制备技术 | 第15-26页 |
| ·多弧离子镀 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射 | 第16-22页 |
| ·等离子体化学气相沉积 | 第22-23页 |
| ·离子束辅助沉积 | 第23-26页 |
| ·论文的研究目标及研究内容 | 第26-27页 |
| 2 实验方法 | 第27-34页 |
| ·试样的准备 | 第27页 |
| ·镀膜设备 | 第27-28页 |
| ·实验设计 | 第28-30页 |
| ·TiN 膜的工艺参数优化 | 第29页 |
| ·Ti/TiN 多层膜优化工艺参数设计 | 第29-30页 |
| ·薄膜性能分析测试方法 | 第30-34页 |
| ·结合强度测试 | 第30-31页 |
| ·膜层厚度测试 | 第31-32页 |
| ·硬度测试 | 第32页 |
| ·缺陷的定量分析 | 第32-34页 |
| 3 TiN 薄膜工艺参数优化 | 第34-53页 |
| ·表面形貌 | 第34-42页 |
| ·宏观评价及其结果分析 | 第34-36页 |
| ·表面缺陷数量及结果分析 | 第36-39页 |
| ·表面缺陷面积比例及结果分析 | 第39-42页 |
| ·膜层厚度测量 | 第42-44页 |
| ·膜层力学性能测试 | 第44-52页 |
| ·膜/基结合力及其结果分析 | 第44-47页 |
| ·膜层硬度及其结果分析 | 第47-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 4 Ti/TiN 多层膜的工艺参数选择及性能研究 | 第53-64页 |
| ·脉冲送气对膜层性能的影响 | 第53-55页 |
| ·脉冲送气对氮气流量选择的影响 | 第55-56页 |
| ·调制周期对Ti/TiN 多层膜性能的影响 | 第56-60页 |
| ·调制周期实验参数选择 | 第56-57页 |
| ·调制周期对 Ti/TiN 多层膜性能的影响 | 第57-60页 |
| ·调制比对Ti/TiN 多层膜性能的影响 | 第60-63页 |
| ·调制比实验参数选择 | 第60-61页 |
| ·调制比对 Ti/TiN 多层膜性能的影响 | 第61-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 5 结论及建议 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 附录 | 第71页 |
