TiO2基稀磁半导体的制备与磁性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 综述 | 第10-27页 |
| ·稀磁半导体研究概况 | 第10-20页 |
| ·稀磁半导体研究背景 | 第10-12页 |
| ·稀磁半导体分类 | 第12-13页 |
| ·稀磁半导体的研究进展 | 第13-15页 |
| ·稀磁半导体的物理特性 | 第15-17页 |
| ·稀磁半导体的应用前景 | 第17-20页 |
| ·TiO_2 晶体结构及物理特性 | 第20-23页 |
| ·TiO_2 晶体结构 | 第20-22页 |
| ·晶相稳定性 | 第22-23页 |
| ·TiO_2 物理特性 | 第23页 |
| ·TiO_2 基稀磁半导体研究现状与待解决的问题 | 第23-25页 |
| ·本论文选题意义及主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 实验 | 第27-37页 |
| ·粉体的制备 | 第27-29页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第29-31页 |
| ·磁控溅射仪的基本特点 | 第29页 |
| ·磁控溅射法原理 | 第29-30页 |
| ·采用反应磁控溅射法沉积薄膜的优点 | 第30页 |
| ·基片的清洗 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射镀膜程序 | 第31页 |
| ·样品的测试 | 第31-37页 |
| ·X 射线衍射 | 第32页 |
| ·扫描探针显微镜 | 第32页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第32-33页 |
| ·振动样品磁强计 | 第33-34页 |
| ·物理性能测试仪 | 第34页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第34-35页 |
| ·霍耳效应测量 | 第35-37页 |
| 第三章 Co:TiO_2 粉体的结构与磁性研究 | 第37-46页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·样品的制备 | 第38-39页 |
| ·结构与形貌 | 第39-43页 |
| ·光学性质的研究 | 第43-44页 |
| ·磁性测量与分析 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 Ni:TiO_2 薄膜结构与磁性研究 | 第46-58页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·实验 | 第46-47页 |
| ·结构、形貌与磁畴检测 | 第47-50页 |
| ·磁性测量与分析 | 第50-55页 |
| ·电学性质测量与分析 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 Fe:TiO_2 薄膜的结构与磁性研究 | 第58-71页 |
| ·样品的制备与表征 | 第58-62页 |
| ·磁性的测量及分析 | 第62-68页 |
| ·电性测量与分析 | 第68页 |
| ·磁性起源讨论 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第六章 Cu:TiO_2 薄膜的结构与磁性研究 | 第71-79页 |
| ·引言 | 第71页 |
| ·实验 | 第71-72页 |
| ·结构测量与分析 | 第72-73页 |
| ·形貌及磁畴检测与分析 | 第73-74页 |
| ·XPS 检测与价态分析 | 第74-75页 |
| ·磁性测量与分析 | 第75-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第七章 结论 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-89页 |
| 硕士研究生期间发表论文情况 | 第89页 |
| 硕士研究生期间参加会议情况 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
