| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-42页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·DLC 膜的性能及应用现状 | 第10-22页 |
| ·DLC 膜的发展史 | 第10页 |
| ·DLC 膜的成分与结构 | 第10-14页 |
| ·DLC 膜的性能 | 第14-15页 |
| ·DLC 薄膜成核 | 第15-16页 |
| ·DLC 膜技术发展与应用的主要问题 | 第16-22页 |
| ·如何提高类金刚石膜与衬底之间的结合强度 | 第16-21页 |
| ·如何提高类金刚石膜的热稳定性 | 第21页 |
| ·如何提高薄膜沉积速率和实现大面积沉积以降低类金刚石膜制备成本 | 第21-22页 |
| ·离子注入技术 | 第22-30页 |
| ·离子注入的原理 | 第22-23页 |
| ·离子注入的特征 | 第23-24页 |
| ·金属蒸气真空弧放电离子源(MEVVA) | 第24-25页 |
| ·等离子体湮没式离子注入(Plasma ion immerision implantation, PIII | 第25-27页 |
| ·离子注入表面改性的机理 | 第27-29页 |
| ·离子注入提高硬度机理 | 第27页 |
| ·离子注入提高耐磨性的机理 | 第27-28页 |
| ·离子注入提高疲劳强度的机理 | 第28页 |
| ·离子注入提高抗氧化性的机理 | 第28-29页 |
| ·离子注入提高耐腐蚀性的机理 | 第29页 |
| ·离子注入技术的历史发展与应用状况 | 第29-30页 |
| ·本文主要研究内容 | 第30-33页 |
| 参考文献 | 第33-42页 |
| 第二章 实验设备与测试方法 | 第42-48页 |
| ·原材料与样品制备 | 第42-44页 |
| ·基体材料与预处理 | 第42页 |
| ·实验工艺及参数 | 第42-44页 |
| ·不锈钢基底体系的W 离子注入预处理及DLC 薄膜制备 | 第42-44页 |
| ·硅基底体系的DLC 制备及W 离子注入后处理 | 第44页 |
| ·等离子体注入沉积(PIII-D)设备 | 第44-45页 |
| ·分析测试 | 第45-47页 |
| ·成分与结构分析 | 第45页 |
| ·DLC 膜的表面及界面形貌观察 | 第45-46页 |
| ·纳米压入测试 | 第46页 |
| ·纳米划痕试验 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 第三章 PIII-D 法制备DLC 膜的工艺参数控制 | 第48-64页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·PIII-D 技术的工艺特点 | 第48-50页 |
| ·偏压参数对DLC 膜组织结构的影响 | 第50-55页 |
| ·不同偏压下DLC 膜的微观结构变化 | 第50-54页 |
| ·不同偏压下DLC 薄膜的表面形貌变化 | 第54-55页 |
| ·C2H2 对Ar 气流比(FC2H2: FAr)对DLC 薄膜组织结构的影响 | 第55-60页 |
| ·不同C2H2 对Ar 气流比(FC2H2: FAr)所得DLC 膜的微观结构变化 | 第55-58页 |
| ·不同C2H2 对Ar 气流比(FC2H2: FAr)制备DLC 薄膜的表面形貌变化 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 第四章 W 离子注入预处理对DLC 薄膜/不锈钢基底体系的结构性能影响 | 第64-102页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·W 离子注入对不锈钢基底表面的影响 | 第64-69页 |
| ·W 注入层相关元素的浓度分布 | 第64-65页 |
| ·W 注入层相关元素的化学组成 | 第65-69页 |
| ·薄膜体系中的过渡层研究 | 第69-73页 |
| ·过渡层中的元素浓度分布 | 第69-71页 |
| ·过渡层中的化学结构变化 | 第71-73页 |
| ·不同的注W 参数对DLC 成膜的影响 | 第73-83页 |
| ·W 离子注入预处理对DLC 膜/不锈钢体系的性能影响 | 第83-89页 |
| ·W 注入预处理对DLC 膜中组织结构的影响 | 第84-85页 |
| ·W 注入预处理对DLC 表面形貌的影响 | 第85-86页 |
| ·W 注入预处理对DLC 薄膜的力学性能的影响 | 第86-89页 |
| ·PIII-D 工艺及Ｗ离子注入预处理对DLC 薄膜成核的影响 | 第89-99页 |
| ·PIII-D 技术制备DLC 薄膜的成核讨论 | 第90-95页 |
| ·薄膜形核过程的热力学 | 第90-93页 |
| ·薄膜形核过程的原子理论 | 第93-95页 |
| ·W 离子注入预处理对DLC 薄膜成核的作用 | 第95-99页 |
| ·W 离子注入改性层对薄膜非自发形核的影响 | 第96-97页 |
| ·基于原子理论对W 离子注入预处理效果的讨论 | 第97-99页 |
| ·本章小结 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-102页 |
| 第五章 W 离子注入后处理对DLC/Si 体系的影响 | 第102-118页 |
| ·引言 | 第102页 |
| ·W 离子注入对DLC 薄膜的组织结构影响 | 第102-107页 |
| ·W 离子注入层的化学结构及元素分布 | 第102-105页 |
| ·W 离子注入层的微观组织结构观察分析 | 第105-106页 |
| ·W 离子注入对DLC 薄膜表面形貌的改变 | 第106-107页 |
| ·W 离子注入后处理对DLC 薄膜性能的影响 | 第107-110页 |
| ·W 离子注入前后DLC 薄膜的硬度变化 | 第107-108页 |
| ·W 离子注入对DLC 薄膜的摩擦性能影响 | 第108页 |
| ·W 离子注入对DLC 薄膜结合性能的影响 | 第108-110页 |
| ·碳钨纳米晶粒的形成机理探究 | 第110-114页 |
| ·本章小结 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-118页 |
| 第六章 总结 | 第118-122页 |
| ·主要结论 | 第118-120页 |
| ·本课题创新点 | 第120-122页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文列表 | 第122-124页 |
| 致谢 | 第124-126页 |
