| 摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-25页 |
| ·常见氧化钒的结构及性质 | 第11-21页 |
| ·五氧化二钒(V_2O_5) | 第11-13页 |
| ·V_2O_5的结构 | 第11-12页 |
| ·V_2O_5的性质 | 第12-13页 |
| ·二氧化钒(VO_2) | 第13-18页 |
| ·VO_2(A)型 | 第14-17页 |
| ·VO_2(A)型的结构 | 第14-15页 |
| ·VO_2(A)型的相变原理 | 第15-16页 |
| ·VO_2(A)型的性质 | 第16-17页 |
| ·VO_2(B)型 | 第17-18页 |
| ·VO_2(B)型的结构 | 第18页 |
| ·VO_2(B)型的性质 | 第18页 |
| ·三氧化二钒(V_2O_3) | 第18-21页 |
| ·V_2O_3的结构 | 第18-19页 |
| ·V_2O_3的相变理论 | 第19-21页 |
| ·V_2O_3的性质 | 第21页 |
| ·氧化钒的研究概况 | 第21-23页 |
| ·氧化钒的应用前景 | 第23-24页 |
| ·本论文的选题依据及研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 常用的氧化钒薄膜的制备方法及测试手段 | 第25-34页 |
| ·氧化钒薄膜的制备方法 | 第25-28页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第25-26页 |
| ·溅射镀膜 | 第26页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第26页 |
| ·离子镀膜 | 第26-27页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第27页 |
| ·氧化钒薄膜制备方法的比较 | 第27-28页 |
| ·氧化钒薄膜的测试手段 | 第28-34页 |
| ·结构测试 | 第28-29页 |
| ·组分测试 | 第29-30页 |
| ·形貌测试 | 第30-31页 |
| ·厚度测试 | 第31-33页 |
| ·台阶膜厚仪 | 第31-32页 |
| ·椭圆偏振法 | 第32-33页 |
| ·电学性质测试 | 第33页 |
| ·光学性质测试 | 第33-34页 |
| 第三章 实验内容 | 第34-38页 |
| ·本论文中氧化钒薄膜的制备工艺 | 第34-37页 |
| ·镀膜机的改造 | 第34页 |
| ·基片清洗 | 第34-35页 |
| ·真空蒸发 | 第35-37页 |
| ·真空退火 | 第37页 |
| ·薄膜测试 | 第37-38页 |
| 第四章 退火条件对氧化钒薄膜物相及电学性能的影响 | 第38-49页 |
| ·退火温度的影响 | 第38-45页 |
| ·低真空下退火 | 第38-41页 |
| ·XRD测试结果 | 第38-40页 |
| ·XPS测试结果 | 第40页 |
| ·电学性质测试结果 | 第40-41页 |
| ·高真空下退火 | 第41-45页 |
| ·XRD测试结果 | 第41-43页 |
| ·XPS测试结果 | 第43页 |
| ·电学性质测试结果 | 第43-45页 |
| ·退火真空度的影响 | 第45-49页 |
| ·XPS测试结果 | 第45-46页 |
| ·XRD测试结果 | 第46-48页 |
| ·电学性质测试结果 | 第48-49页 |
| 第五章 退火条件对VO_2(B)型薄膜光电性能的影响 | 第49-54页 |
| ·退火温度的影响 | 第49-52页 |
| ·低真空下退火 | 第49-50页 |
| ·XRD测试结果 | 第49-50页 |
| ·电学性质测试结果 | 第50页 |
| ·高真空下退火 | 第50-52页 |
| ·XRD测试结果 | 第50-51页 |
| ·电学性质测试结果 | 第51-52页 |
| ·退火真空度的影响 | 第52-54页 |
| ·电学性质测试结果 | 第52-53页 |
| ·光学性质测试结果 | 第53-54页 |
| 第六章 退火条件对VO_2(A)型薄膜光电性能的影响 | 第54-58页 |
| ·原子力显微镜测试结果 | 第54-55页 |
| ·电学性质测试结果 | 第55-56页 |
| ·光学性质测试结果 | 第56-58页 |
| 第七章 总结 | 第58-60页 |
| ·结论 | 第58-59页 |
| ·展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第66-69页 |
| 致谢 | 第69页 |