| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-30页 |
| ·硅基发光器件的研究背景 | 第7-13页 |
| ·硅纳米结构 | 第13-27页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第27-28页 |
| ·实验和分析方法简介 | 第28-30页 |
| 第2章 SRSO 薄膜微观结构和发光性能的研究 | 第30-48页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·制备工艺和退火温度SRSO 薄膜结构和发光性能的影响 | 第31-42页 |
| ·氧气后退火对SRSO 薄膜结构和发光性能的影响 | 第42-48页 |
| 第3章 富纳米晶硅 AL203(SRAO)薄膜结构和发光性能研究 | 第48-60页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·样品制备 | 第49-50页 |
| ·实验结果 | 第50-54页 |
| ·分析与讨论 | 第54-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 第4章 NI 诱导 SIOX薄膜分相和纳米晶硅生长的研究 | 第60-77页 |
| ·引言 | 第60-61页 |
| ·样品制备 | 第61页 |
| ·实验结果 | 第61-69页 |
| ·分析与讨论 | 第69-76页 |
| ·小结 | 第76-77页 |
| 第5章结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第88页 |