亚波长金属光栅结构的红外特性研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-16页 |
·引言 | 第10页 |
·增透膜简介 | 第10-11页 |
·光栅的EOT 效应 | 第11-13页 |
·亚波长光栅研究历史及现状 | 第13-15页 |
·本论文主要研究内容 | 第15-16页 |
第二章 亚波长光栅传输特性的理论计算 | 第16-31页 |
·光栅的分析方法 | 第16-17页 |
·严格耦合波法 | 第17-29页 |
·周期光栅电磁场的性质 | 第18-19页 |
·严格耦合波法求解 | 第19-26页 |
·严格耦合波法求解结果分析 | 第26-29页 |
·小结 | 第29-31页 |
第三章 光栅结构设计与仿真 | 第31-43页 |
·光栅仿真模型建立 | 第31-35页 |
·仿真软件介绍 | 第31-32页 |
·仿真参数确定 | 第32-35页 |
·周期对光栅透过率的影响 | 第35-36页 |
·栅条厚度对光栅透过率的影响 | 第36-38页 |
·占空比对光栅透过率的影响 | 第38-41页 |
·材料对光栅透过率的影响 | 第41-42页 |
·光栅参数确定 | 第42-43页 |
第四章 铝膜制备及性能测试 | 第43-48页 |
·铝膜制备 | 第43-45页 |
·溅射镀膜设备 | 第43-44页 |
·直流溅射原理 | 第44页 |
·实验材料 | 第44页 |
·实验过程 | 第44-45页 |
·铝膜性能表征 | 第45-47页 |
·铝膜性能表征方法 | 第45页 |
·制备参数对铝膜的影响 | 第45-47页 |
·小结 | 第47-48页 |
第五章 光栅制备及性能测试 | 第48-62页 |
·光栅刻蚀 | 第48-50页 |
·光刻原理 | 第48-49页 |
·实验步骤 | 第49-50页 |
·光栅测试手段 | 第50-54页 |
·刻蚀深度测试 | 第50页 |
·微观形貌分析 | 第50页 |
·样品成分分析 | 第50页 |
·红外性能测试 | 第50-54页 |
·光栅样品测试结果及分析 | 第54-61页 |
·台阶仪测试结果 | 第54页 |
·SEM 测试结果 | 第54-56页 |
·EDS 测试结果 | 第56-57页 |
·红外透过率分析 | 第57-61页 |
·小结 | 第61-62页 |
第六章 结论及展望 | 第62-64页 |
·结论 | 第62-63页 |
·进一步工作方向 | 第63-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-69页 |
攻读硕士期间取得的研究成果 | 第69-70页 |