磁盘微晶玻璃基板纳米表面加工研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-6页
目录	第6-7页
第一章 绪论	第7-18页
·引言	第7-8页
·国内外研究现状及主要研究内容	第8-9页
·硬脆材料加工机理研究概述	第9-10页
·硬脆材料加工机理研究理论和研究方法	第10-18页
第二章 磁盘微晶玻璃基板纳米表面抛光机理研究	第18-28页
·诸空间尺度下的断裂行为	第18-19页
·位错和微裂纹理论	第19-20页
·脆塑转变判据	第20-24页
·裂纹稳定性分析	第24-25页
·位错发射和微裂纹形核条件	第25-26页
·机械化学固相反应	第26-27页
·水合反应	第27-28页
第三章 磁盘微晶玻璃基板纳米表面抛光机理实验研究	第28-44页
·微晶玻璃微观结构和物理特性	第28-30页
·稀土抛光粉的抛光机理	第30-34页
·抛光垫在抛光实验中的作用	第34-35页
·平面行星式双面抛光机轨迹分析和仿真	第35-44页
第四音 磁盘微晶玻璃基板抛光实验及完整性评价	第44-60页
·磁盘微晶玻璃基板抛光工艺实验	第44-53页
·磁盘微晶玻璃基板纳米表面清洗技术	第53-55页
·磁盘微晶玻璃基板纳米表面的完整性评价	第55-60页
结论	第60-61页
致谢	第61-62页
参考文献	第62-65页
附录	第65页