摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-14页 |
第一章 绪论 | 第14-32页 |
·引言 | 第14-16页 |
·MoSi_2 和NbSi_2 的力学性能 | 第16-19页 |
·MoSi_2 的力学性能概要 | 第16-17页 |
·合金化对MoSi_2 力学性能的影响 | 第17-18页 |
·NbSi_2 力学性能概要 | 第18-19页 |
·硅化物氧化性能 | 第19-20页 |
·MoSi_2 和NbSi_2 的高温氧化 | 第20-22页 |
·热力学分析 | 第20-21页 |
·动力学分析 | 第21-22页 |
·MoSi_2 和NbSi_2 的低温氧化 | 第22-28页 |
·MoSi_2 低温氧化性能 | 第22-28页 |
·NbSi_2 低温氧化性能 | 第28页 |
·单晶氧化各向异性的相关研究 | 第28-30页 |
·氧化产物的表征方法 | 第30-31页 |
·选题意义及研究内容 | 第31-32页 |
第二章 高熔点二硅化物单晶和多晶的制备及其低温氧化性能 | 第32-52页 |
·引言 | 第32-33页 |
·多晶体的制备和微观结构 | 第33-35页 |
·电弧熔炼多晶样品的制备 | 第33页 |
·放电等离子烧结多晶样品的制备 | 第33-34页 |
·多晶样品的微观结构 | 第34-35页 |
·高熔点硅化物单晶体的制备和结构分析 | 第35-38页 |
·单晶的制备 | 第35-37页 |
·单晶位向分析 | 第37-38页 |
·氧化试验方法及氧化产物分析 | 第38-39页 |
·单晶体和多晶体MoSi_2 和NbSi_2 的低温氧化 | 第39-41页 |
·氧化层微观结构和相组成 | 第41-45页 |
·MoSi_2 773K 氧化后的氧化层分析 | 第41-43页 |
·NbSi_2 1023K 氧化后的氧化层分析 | 第43-45页 |
·氧化动力学分析 | 第45-47页 |
·NbSi_2 低温抗氧化性能的改进 | 第47-50页 |
·小结 | 第50-52页 |
第三章 氧化过程的原位观察分析 | 第52-72页 |
·引言 | 第52页 |
·氧化过程的高温金相显微镜的原位观察 | 第52-59页 |
·设备和实验方法 | 第52-53页 |
·MoSi_2 在773K 氧化的原位观察 | 第53-54页 |
·NbSi_2 在1023K 氧化的原位观察 | 第54-59页 |
·氧化膜形成过程的X 射线原位观察 | 第59-65页 |
·MoSi_2 在773K 氧化过程的X 射线分析 | 第59-60页 |
·不同时间下氧化膜厚度的计算 | 第60-63页 |
·NbSi_2 在1023K 氧化过程的X 射线原位观察 | 第63-65页 |
·低温氧化行为的影响因素及机理 | 第65-70页 |
·裂纹的作用机制 | 第65-68页 |
·晶界和孔洞的作用机制 | 第68-69页 |
·晶粒取向不同对氧化速率的影响 | 第69-70页 |
·小结 | 第70-72页 |
第四章 MoSi_2和NbSi_2氧化行为的晶体学各向异性 | 第72-92页 |
·引言 | 第72-73页 |
·试验方法 | 第73页 |
·MoSi_2 和NbSi_2 氧化的各向异性 | 第73-77页 |
·MoSi_2 的氧化特征 | 第73-76页 |
·NbSi_2 的氧化特征 | 第76-77页 |
·氧化膜的表面形貌 | 第77-78页 |
·氧化膜的相组成和形成过程 | 第78-80页 |
·晶体学各向异性的机理分析 | 第80-90页 |
·氧在晶面上的化学吸附能计算 | 第80-88页 |
·扩散对不同晶面氧化速率的影响 | 第88-90页 |
·小结 | 第90-92页 |
第五章 MoSi_2-NbSi_2伪二元系化合物的高温氧化 | 第92-110页 |
·引言 | 第92-93页 |
·试验方法 | 第93页 |
·MoSi_2-NbSi_2 伪二元系相组成与成分的关系 | 第93-95页 |
·MoSi_2-NbSi_2 伪二元系合金的氧化动力学 | 第95-97页 |
·氧化产物分析 | 第97-100页 |
·氧化层截面形貌 | 第100-102页 |
·Nb 对MoSi_2 合金高温氧化性能的影响 | 第102-109页 |
·化学成分对合金高温氧化影响 | 第103-107页 |
·晶体结构对合金高温氧化的影响 | 第107-108页 |
·合金成分的优化讨论 | 第108-109页 |
·小结 | 第109-110页 |
第六章 结论及创新点 | 第110-114页 |
参考文献 | 第114-124页 |
致 谢 | 第124-125页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第125-127页 |