| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-14页 |
| ·CO_2激光的特点和应用 | 第8页 |
| ·红外传能光纤的研究 | 第8-11页 |
| ·传输CO_2激光实芯光纤的研究 | 第8-10页 |
| ·传输CO_2激光空芯光纤的研究 | 第10-11页 |
| ·全反射膜空芯光纤研究中存在的问题和发展趋势 | 第11-12页 |
| ·本文的研究目的和意义 | 第12-14页 |
| 第二章 氧化铝膜空芯光纤的原理及氧化铝膜的制备方案 | 第14-24页 |
| ·全反射膜空芯光纤的原理 | 第14页 |
| ·致密氧化铝膜反常色散与折射率的变化 | 第14-20页 |
| ·材料的反常色散原理分析 | 第14-18页 |
| ·致密氧化铝膜的反常色散性质 | 第18-20页 |
| ·致密氧化铝膜空芯光纤传输CO_2激光的可行性分析 | 第20-21页 |
| ·氧化铝膜空芯光纤的理论损耗分析 | 第20-21页 |
| ·内表面粗糙度引起的附加理论损耗分析 | 第21页 |
| ·本文实验方案的确定 | 第21-24页 |
| 第三章 实验部分 | 第24-31页 |
| ·实验药品及仪器的准备 | 第24页 |
| ·实验药品 | 第24页 |
| ·实验设备 | 第24页 |
| ·氧化铝溶胶的制备和表征 | 第24-26页 |
| ·氧化铝胶粒溶胶的制备 | 第24-26页 |
| ·氧化铝聚合溶胶的制备 | 第26页 |
| ·氧化铝溶胶的表征方法 | 第26页 |
| ·氧化铝凝胶的制备和表征 | 第26-27页 |
| ·致密氧化铝膜的制备 | 第27-30页 |
| ·玻璃基片和电极材料的前处理 | 第28页 |
| ·提拉法制备致密氧化铝膜 | 第28页 |
| ·旋覆法制备致密氧化铝膜 | 第28页 |
| ·电泳沉积法制备致密氧化铝膜 | 第28-29页 |
| ·氧化铝膜的高温热处理制度 | 第29-30页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第30-31页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第31-68页 |
| ·分散法制备氧化铝溶胶的研究 | 第31-39页 |
| ·分散法制备氧化铝溶胶的原理 | 第31页 |
| ·硝酸的浓度对高固含量氧化铝溶胶稳定性的影响 | 第31-37页 |
| ·氧化铝胶体颗粒的形状及粒径变化 | 第32-33页 |
| ·氧化铝胶体颗粒的双电层厚度和ζ电位 | 第33-35页 |
| ·DLVO分析 | 第35-37页 |
| ·水的加入量对凝胶时间和粘度的影响 | 第37-39页 |
| ·氧化铝胶粒凝胶向晶态的转变 | 第39-43页 |
| ·氧化铝凝胶的差热失重分析 | 第39页 |
| ·氧化铝凝胶的物相分析 | 第39-42页 |
| ·氧化铝凝胶的结构分析 | 第42-43页 |
| ·提拉法制备氧化铝膜的研究 | 第43-51页 |
| ·提拉速度对氧化铝膜的影响 | 第44-45页 |
| ·镀膜次数对氧化铝膜的影响 | 第45-46页 |
| ·溶胶固含量对多层膜的影响 | 第46-47页 |
| ·高温热处理对多层膜的影响 | 第47-48页 |
| ·氧化铝膜的物相分析 | 第48-50页 |
| ·氧化铝膜的光学常数分析 | 第50-51页 |
| ·旋覆法制备氧化铝膜的研究 | 第51-54页 |
| ·转速对氧化铝膜的影响 | 第51页 |
| ·镀膜次数对氧化铝膜的影响 | 第51-53页 |
| ·热处理工艺对镀膜的影响 | 第53-54页 |
| ·聚合法制备氧化铝溶胶的研究 | 第54-56页 |
| ·异丁醇的加入量对胶体颗粒粒径的影响 | 第54-55页 |
| ·异丁醇对胶体颗粒的zeta电位的影响 | 第55-56页 |
| ·氧化铝聚合凝胶向晶态的转变 | 第56-58页 |
| ·氧化铝聚合凝胶的差热失重分析 | 第56-57页 |
| ·氧化铝聚合凝胶的物相分析 | 第57-58页 |
| ·电泳沉积镀膜工艺的研究 | 第58-65页 |
| ·电泳沉积法镀膜的原理 | 第58-60页 |
| ·电极种类对镀膜的影响 | 第60页 |
| ·不锈钢基片上氧化铝膜的制备工艺 | 第60-61页 |
| ·ITO玻璃基片上氧化铝膜的制备工艺 | 第61-65页 |
| ·溶胶的浓度对氧化铝膜的影响 | 第61-63页 |
| ·沉积电压对氧化铝膜的影响 | 第63-64页 |
| ·沉积时间对氧化铝膜的影响 | 第64-65页 |
| ·关于致密氧化铝膜的三种制备工艺的比较总结 | 第65-68页 |
| 第五章 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73页 |