氮化铝薄膜的制备及场发射性质

第一章 绪论	第1-23页
·AlN 的结构性质及应用	第7-10页
·场发射的研究历史及发展状况	第10-13页
·场发射的应用-FED 及其研究进展	第13-17页
·FED 的阴极技术-阴极材料的选择	第17-20页
·本论文的选题原因	第20-23页
第二章 AlN薄膜的制备的原理及基本程序	第23-35页
·薄膜材料的制备方法	第23-24页
·反应性射频磁控溅射镀膜原理	第24-28页
·AlN 薄膜的制备	第28-31页
·AlN 薄膜的制备的基本程序	第31-35页
第三章 AlN薄膜的沉积研究	第35-42页
·AlN 薄膜的物相鉴定	第35-36页
·镀膜参数对 AlN薄膜生长速率的影响	第36-42页
第四章 沉积参数对 AlN薄膜场发射性能的影响	第42-84页
·场发射理论	第42-50页
·场发射测试系统	第50-54页
·镀膜参数的改变对AlN薄膜场发射特性的影响	第54-84页
·工作气压对AlN薄膜场发射特性的影响	第54-60页
·分压比对 AlN薄膜场发射特性的影响	第60-66页
·薄膜厚度对AlN薄膜场发射特性的影响	第66-73页
·射频功率对 AlN 薄膜场发射特性的影响	第73-78页
·不同基底对AlN薄膜场发射特性的影响	第78-84页
第五章 总 结	第84-86页
参考文献	第86-92页
致谢	第92-93页
附: 中英文摘要	第93-99页