| 英文摘要 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-8页 |
| 第一章 多孔硅研究综述 | 第8-21页 |
| §1．1 制备方法 | 第9-11页 |
| §1．2 光致发光 | 第11-14页 |
| §1．3 微结构表征 | 第14-16页 |
| §1．4 表面后处理 | 第16-17页 |
| §1．5 研究方法 | 第17-19页 |
| 参考文献 | 第19-21页 |
| 第二章 多孔硅的形成及其发光 | 第21-33页 |
| §2．1 形成机制简介 | 第21-23页 |
| §2．2 制备参数的影响 | 第23-29页 |
| §2．3 形成过程的理论分析 | 第29-31页 |
| 小结 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-33页 |
| 第三章 多孔硅光致发光特性 | 第33-48页 |
| §3．1 引言 | 第33-35页 |
| §3．2 样品制备与测量结果 | 第35-40页 |
| §3．3 分析与讨论 | 第40-43页 |
| §3．4 综合发光模型的解释 | 第43-46页 |
| 小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 第四章 应用研究展望 | 第48-53页 |
| §4．1 实际应用问题 | 第48-49页 |
| §4．2 应用前景 | 第49-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
| 总结 | 第53-54页 |
| 发表的文章 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |