黄铜线和紫铜线的化学抛光新工艺
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·研究背景 | 第10-11页 |
| ·铜的腐蚀分析 | 第11-13页 |
| ·化学抛光的理论研究 | 第13-16页 |
| ·粘膜理论 | 第13-14页 |
| ·钝化理论 | 第14-15页 |
| ·双重膜理论 | 第15页 |
| ·理论小结 | 第15-16页 |
| ·抛光过程分析 | 第16-18页 |
| ·目前常用化学抛光方法介绍 | 第18-20页 |
| ·硝酸及其盐系列化学抛光液 | 第18页 |
| ·重铬酸及其盐类 | 第18-19页 |
| ·过氧化氢类 | 第19页 |
| ·化学抛光存在的问题 | 第19-20页 |
| ·本论文研究的目的和意义 | 第20-22页 |
| 第二章 实验方案设计 | 第22-28页 |
| ·化学抛光溶液选择 | 第22-23页 |
| ·试验准备 | 第23-24页 |
| ·实验方案 | 第24-26页 |
| ·实验工艺流程 | 第24-25页 |
| ·抛光步骤正交试验 | 第25页 |
| ·正交试验设计试验因素 | 第25-26页 |
| ·实验验证方法 | 第26页 |
| ·影响化学抛光质量的因素 | 第26-28页 |
| ·基液比例的影响 | 第26页 |
| ·磷酸的影响 | 第26-27页 |
| ·表面活性剂的影响 | 第27页 |
| ·乳化剂的影响 | 第27页 |
| ·络合剂的影响 | 第27页 |
| ·工艺条件的影响 | 第27-28页 |
| 第三章 实验过程及数据分析和研究 | 第28-51页 |
| ·基础化学抛光液的简述 | 第28-29页 |
| ·基础化学抛光液配比 | 第28页 |
| ·双氧水的作用 | 第28页 |
| ·硫酸的作用 | 第28页 |
| ·搅拌的作用 | 第28-29页 |
| ·抛光质量和等级对应关系 | 第29页 |
| ·化学清洗脱脂和预酸洗对抛光效果的影响 | 第29-30页 |
| ·化学抛光抛光液的确定 | 第30-46页 |
| ·基础化学抛光液的比例确定 | 第30-32页 |
| ·一次化学抛光液的确定 | 第32-36页 |
| ·一次化学化学抛光工艺参数 | 第36-39页 |
| ·除膜对抛光质量的影响 | 第39-40页 |
| ·二次化学抛光液的确定 | 第40-43页 |
| ·二次化学化学抛光工艺参数 | 第43-46页 |
| ·铜线浸碱对抛光效果的影响 | 第46页 |
| ·铜线钝化对抛光效果的影响 | 第46-48页 |
| ·化学抛光图像 | 第48-50页 |
| ·工业应用 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 附件 | 第55页 |
