| 中文摘要 | 第1-3页 |
| 英文摘要 | 第3-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-22页 |
| 1．1 激光直接制版技术 | 第7-15页 |
| 1．1．1 激光直接制版版材的发展概况 | 第7-9页 |
| 1．1．2 激光直接制版版材的类型及成像原理 | 第9-14页 |
| 1．1．2．1 激光直接制版版材的类型 | 第9-11页 |
| 1．1．2．2 激光直接制版版材的成像原理 | 第11-14页 |
| 1．1．3 激光直接制版版材展望 | 第14-15页 |
| 1．2 光引发体系 | 第15-22页 |
| 第二章 实验部分 | 第22-28页 |
| 2．1 药品及仪器设备 | 第22-24页 |
| 2．2 实验方法 | 第24-28页 |
| 2．2．1 增感剂硫代吖啶酮的合成 | 第24-25页 |
| 2．2．2 目标产物及各中间产物的结构测定 | 第25-26页 |
| 2．2．3 光敏性能的测定 | 第26-27页 |
| 2．2．4 由各种硫代吖啶酮增感剂组成的光敏涂层的感光性能的测定 | 第27-28页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第28-59页 |
| 3．1 具有不同取代基的硫代吖啶酮合成 | 第28-36页 |
| 3．1．1 N上带取代基的硫代吖啶酮合成路线的选择 | 第29-31页 |
| 3．1．2 不同结构的硫代吖啶酮合成条件的探索 | 第31-36页 |
| 3．1．2．1 脱水环化合成吖啶酮的反应条件的选择 | 第31-33页 |
| 3．1．2．2 合成2—羧基二苯胺的反应条件的探讨 | 第33页 |
| 3．1．2．3 N—苯基化反应中2—羧基—4’—乙氧基二苯胺与2—羧基二苯胺反应条件的比较 | 第33-34页 |
| 3．1．2．4 2—羧基—4’—乙氧基三苯胺脱水环化产物的探讨 | 第34-36页 |
| 3．2 具有不同取代基的硫代吖啶酮的结构表征 | 第36-39页 |
| 3．3 具有不同取代基的硫代吖啶酮光敏性能的研究 | 第39-59页 |
| 3．3．1 具有不同取代基的硫代吖啶酮、吖啶酮的UV光谱性能 | 第39-43页 |
| 3．3．1．1 不同结构的硫代吖啶酮和相应吖啶酮的吸收波长 | 第40-41页 |
| 3．3．1．2 具有不同取代基的硫代吖啶酮、吖啶酮的摩尔消光系数 | 第41-43页 |
| 3．3．2 具有不同取代基的硫代吖啶酮的光分解速度 | 第43-50页 |
| 3．3．3 N—丁基硫代吖啶酮的光分解 | 第50-52页 |
| 3．3．4 影响硫代吖啶酮光聚合体系感光度的因素 | 第52-59页 |
| 3．3．4．1 硫代吖啶酮的结构对光聚合体系感光度的影响 | 第53-55页 |
| 3．3．4．2 活化剂对光聚合体系感光度的影响 | 第55-59页 |
| 第四章 结论 | 第59-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 已发表或收录文章 | 第66-67页 |
| 附图 | 第67-98页 |
