快速退火炉系统设计与实现
| 摘要 | 第1-11页 |
| ABSTRACT | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-23页 |
| ·论文研究背景及意义 | 第13-17页 |
| ·硅片快速热处理工艺概述 | 第13-15页 |
| ·快速退火炉系统概述 | 第15-16页 |
| ·课题研究意义 | 第16-17页 |
| ·快速退火炉系统的国内外研究概况及发展趋势 | 第17-21页 |
| ·快速退火炉系统的发展历程 | 第17-19页 |
| ·快速退火炉系统的国内外研究现状 | 第19-20页 |
| ·快速退火炉系统的发展趋势 | 第20-21页 |
| ·论文的研究内容与安排 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第二章 快速退火炉系统方案设计 | 第23-28页 |
| ·热源方案分析 | 第23-24页 |
| ·可供选择的两种热源方案分析 | 第23-24页 |
| ·灯光加热型热源设计方案的确定 | 第24页 |
| ·温度测量方案分析 | 第24-26页 |
| ·温度测量方案选择分析 | 第25页 |
| ·温度测量设计方案的确定 | 第25-26页 |
| ·系统总体方案设计及主要技术指标 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 快速退火炉关键系统与部件设计 | 第28-54页 |
| ·快速退火炉系统加热功率设计 | 第28-31页 |
| ·快速退火炉系统热设计概述 | 第28-29页 |
| ·热设计理论计算 | 第29-31页 |
| ·高强度光源和反应腔体设计 | 第31-37页 |
| ·卤钨素灯功率密度计算 | 第31-32页 |
| ·加热灯管的功率分配及分区 | 第32-34页 |
| ·反应腔体设计 | 第34-37页 |
| ·温度测量与温度控制器设计 | 第37-43页 |
| ·非接触式温度测量原理及测温元件选择 | 第37-39页 |
| ·温度校正原理 | 第39-40页 |
| ·温度控制硬件设计 | 第40-42页 |
| ·温度控制器设计 | 第42-43页 |
| ·硅片传送系统设计 | 第43-46页 |
| ·硅片传送系统的功能性设计 | 第43-44页 |
| ·硅片传送系统控制流程设计 | 第44-46页 |
| ·自动控制系统设计 | 第46-53页 |
| ·自动控制系统功能设计 | 第46-47页 |
| ·主控制系统总体架构设计 | 第47-49页 |
| ·主控制程序流程图设计 | 第49-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 快速退火炉辅助系统设计 | 第54-58页 |
| ·冷却系统设计 | 第54-55页 |
| ·工艺送气系统设计 | 第55-56页 |
| ·气动系统设计 | 第56页 |
| ·防颗粒污染设计 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 快速退火炉系统的实验研究 | 第58-69页 |
| ·主要设备及实验测试仪器的工作原理 | 第58-61页 |
| ·设备调试及工艺实验 | 第61-68页 |
| ·温度控制器实验与分析 | 第61-62页 |
| ·退火炉系统均匀性指标调试 | 第62-66页 |
| ·退火温度与退火时间对薄层电阻的影响 | 第66-67页 |
| ·均匀性实验测试 | 第67-68页 |
| ·实验结论 | 第68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 研究结论与展望 | 第69-71页 |
| ·研究结论 | 第69页 |
| ·研究展望 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第75-76页 |
| 作者在学期间取得的相关科研成果 | 第76-77页 |
| 附录A 在学期间获得的专利 | 第77-79页 |
| 附录B 在学期间科研成果获奖情况 | 第79页 |
