| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 符号说明 | 第7-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-31页 |
| 第一节 双光子吸收的概况 | 第11-13页 |
| ·双光子吸收的定义 | 第11-13页 |
| ·双光子发展概况 | 第13页 |
| 第二节 双光子荧光材料的研究现状 | 第13-24页 |
| ·基础研究阶段 | 第13-15页 |
| ·蓬勃发展阶段 | 第15-24页 |
| ·非复合的有机双光子荧光材料 | 第16-19页 |
| ·有机/无机复合双光子荧光材料 | 第19-24页 |
| 第三节 论文的设计思想 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-31页 |
| 第二章 吡啶衍生物的合成与表征 | 第31-58页 |
| 引言 | 第31页 |
| 试剂 | 第31页 |
| 仪器 | 第31页 |
| 第一节 目标分子的合成路线 | 第31-33页 |
| ·化合物L1的合成路线 | 第31-32页 |
| ·化合物L2的合成路线 | 第32页 |
| ·化合物L3的合成路线 | 第32-33页 |
| ·化合物L4的合成路线 | 第33页 |
| 第二节 目标分子的合成与表征 | 第33-47页 |
| ·化合物L1的合成步骤与表征 | 第33-37页 |
| ·配体L2合成步骤和表征 | 第37-41页 |
| ·配体L3合成步骤和表征 | 第41-45页 |
| ·配体L4合成步骤和表征 | 第45-47页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第47-53页 |
| ·关于Heck反应 | 第47-49页 |
| ·三苯胺二甲酸二甲酯乙烯基吡啶的核磁讨论 | 第49-53页 |
| 第四节 晶体结构 | 第53-56页 |
| ·单晶的培养与解析 | 第54-55页 |
| ·晶体学数据 | 第55-56页 |
| 本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-58页 |
| 第三章 吡啶衍生物的光学性质 | 第58-77页 |
| 第一节 吡啶衍生物的单、双光子性质 | 第58-67页 |
| ·吡啶衍生物的紫外光谱 | 第59-62页 |
| ·吡啶衍生物的荧光光谱 | 第62-67页 |
| ·单光子荧光 | 第62-64页 |
| ·单光子荧光的量子产率 | 第64-65页 |
| ·吡啶衍生物的双光子吸收和荧光性质 | 第65-67页 |
| 第二节 化合物的密度泛函理论计算 | 第67-69页 |
| ·理论计算 | 第67-69页 |
| 第三节 吡啶衍生物的单光子吸收和荧光识别金属离子研究 | 第69-75页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第69页 |
| ·吡啶衍生物单光子吸收识别金属离子研究 | 第69-73页 |
| ·吡啶衍生物单光子荧光识别金属离子研究 | 第73-75页 |
| 本章小结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-77页 |
| 第四章 吡啶衍生物的＠SiO_2合成、表征及光学性质 | 第77-103页 |
| 引言 | 第77页 |
| 试剂 | 第77页 |
| 仪器 | 第77页 |
| 第一节 目标分子的合成路线 | 第77-80页 |
| ·化合物L5的合成路线 | 第77-78页 |
| ·化合物L6的合成路线 | 第78页 |
| ·化合物L7的合成路线 | 第78-79页 |
| ·化合物L8的合成路线 | 第79-80页 |
| ·化合物L9的合成路线 | 第80页 |
| 第二节 目标分子的合成与表征 | 第80-90页 |
| ·化合物L5的合成步骤与表征 | 第80-83页 |
| ·化合物L6的合成步骤与表征 | 第83-84页 |
| ·化合物L7的合成步骤与表征 | 第84-87页 |
| ·化合物L8的合成步骤与表征 | 第87-88页 |
| ·化合物L9的合成步骤与表征 | 第88-90页 |
| 第三节 目标分子的光学性质 | 第90-97页 |
| ·化合物的紫外光谱和单光子荧光光谱 | 第90-94页 |
| ·吡啶衍生物@SiO_2的单光子吸收光谱 | 第90-92页 |
| ·吡啶衍生物@SiO_2的单光子荧光光谱 | 第92-94页 |
| ·吡啶衍生物@SiO_2的双光子吸收和荧光性质 | 第94-97页 |
| 第四节 目标分子的形貌特征 | 第97-102页 |
| 本章小结 | 第102-103页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第103-105页 |
| 硕士期间发表论文 | 第105-106页 |
| 致谢 | 第106-107页 |