高功率脉冲磁控溅射注入与沉积技术研究及CrN薄膜制备
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·课题背景及意义 | 第10-11页 |
| ·离子注入技术 | 第11-16页 |
| ·离子注入技术及其特点 | 第11-12页 |
| ·离子注入技术的发展 | 第12-14页 |
| ·离子注入技术的应用 | 第14-16页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射技术 | 第16-18页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射技术的发展 | 第16-17页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射技术的放电机制 | 第17-18页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射技术的放电等离子体成分 | 第18页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射技术放电离子能量的分布 | 第18页 |
| ·CrN 薄膜及其制备技术 | 第18-20页 |
| ·多弧离子镀技术 | 第19页 |
| ·反应磁控溅射技术 | 第19-20页 |
| ·本课题主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第21-27页 |
| ·实验材料及试样制备 | 第21-22页 |
| ·实验材料 | 第21页 |
| ·试样制备 | 第21-22页 |
| ·实验设备 | 第22-23页 |
| ·实验研究 | 第23-24页 |
| ·高压清洗 | 第23页 |
| ·注入与沉积原理及工艺 | 第23-24页 |
| ·测试方法 | 第24-27页 |
| ·扫描电镜（SEM）分析 | 第24-25页 |
| ·原子力显微镜（AFM）观察 | 第25页 |
| ·X—射线衍射（XRD）分析 | 第25页 |
| ·膜层超显微硬度测试 | 第25页 |
| ·膜基结合力测试 | 第25页 |
| ·耐腐蚀性能测试 | 第25-26页 |
| ·摩擦磨损性能测试 | 第26-27页 |
| 第3章 等离子体放电特性研究 | 第27-38页 |
| ·等离子体放电典型波形 | 第27-28页 |
| ·靶脉冲平均电流的影响 | 第28-29页 |
| ·靶脉宽的影响 | 第29-30页 |
| ·频率的影响 | 第30-31页 |
| ·高压电压的影响 | 第31-32页 |
| ·高压脉宽的影响 | 第32-33页 |
| ·相位的影响 | 第33-35页 |
| ·气压的影响 | 第35-36页 |
| ·直流的影响 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 高功率脉冲磁控溅射注入与沉积均匀性研究 | 第38-47页 |
| ·工艺参数 | 第38页 |
| ·表面形貌研究 | 第38-39页 |
| ·AFM 立体表面形貌及粗糙度研究 | 第39-41页 |
| ·截面形貌研究 | 第41-42页 |
| ·膜基结合力性能研究 | 第42-43页 |
| ·薄膜均匀性研究 | 第43-45页 |
| ·不同方法下膜厚均匀性对比 | 第43-44页 |
| ·不同靶间距下膜厚均匀性对比 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第5章 高功率脉冲磁控溅射注入与沉积CrN 薄膜 | 第47-63页 |
| ·表面形貌分析 | 第47-48页 |
| ·XRD 相结构分析 | 第48-49页 |
| ·硬度测试分析 | 第49-52页 |
| ·膜基结合力测试分析 | 第52-54页 |
| ·摩擦磨损性能分析 | 第54-58页 |
| ·电化学腐蚀性能分析 | 第58-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
