| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.2 CuO材料概述 | 第12-13页 |
| 1.2.1 CuO的结构 | 第12页 |
| 1.2.2 CuO的物理-化学性质 | 第12页 |
| 1.2.3 CuO的光电学性质 | 第12页 |
| 1.2.4 CuO的应用领域 | 第12-13页 |
| 1.3 CuO的研究现状 | 第13-14页 |
| 1.4 CuO掺杂的研究现状 | 第14-15页 |
| 1.5 选题依据及本论文研究的主要内容 | 第15-17页 |
| 2 CuO薄膜的制备方法与表征手段 | 第17-21页 |
| 2.1 CuO薄膜的制备方法 | 第17页 |
| 2.2 实验所用材料及设备 | 第17-18页 |
| 2.3 CuO及CuO:In薄膜的表征手段 | 第18-19页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第19页 |
| 2.3.2 Raman光谱 | 第19页 |
| 2.3.3 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第19页 |
| 2.3.4 紫外-可见分光光度计 | 第19页 |
| 2.3.5 霍尔测试 | 第19页 |
| 2.4 小结 | 第19-21页 |
| 3 CuO薄膜的制备及表征 | 第21-42页 |
| 3.1 常温下氧氩比对CuO薄膜的影响 | 第21-27页 |
| 3.1.1 微结构 | 第21-25页 |
| 3.1.2 光学性质 | 第25-26页 |
| 3.1.3 电学性质 | 第26-27页 |
| 3.2 衬底温度为170℃时氧氩比对CuO薄膜的影响 | 第27-31页 |
| 3.2.1 微结构 | 第28-30页 |
| 3.2.2 光学性质 | 第30-31页 |
| 3.3 衬底温度对CuO薄膜的影响 | 第31-38页 |
| 3.3.1 微结构 | 第32-35页 |
| 3.3.2 光学性质 | 第35-37页 |
| 3.3.3 电学性质 | 第37-38页 |
| 3.4 钙钛矿太阳能电池的制备与研究 | 第38-40页 |
| 3.5 小结 | 第40-42页 |
| 4 掺铟氧化铜(CuO:In)薄膜的制备与表征 | 第42-67页 |
| 4.1 室温下溅射功率对CuO:In薄膜的影响 | 第42-49页 |
| 4.1.1 微结构 | 第42-45页 |
| 4.1.2 光学性质 | 第45-47页 |
| 4.1.3 电学性质 | 第47-49页 |
| 4.2 反应气压对CuO:In薄膜的影响 | 第49-54页 |
| 4.2.1 微结构 | 第49-52页 |
| 4.2.2 光学性质 | 第52-53页 |
| 4.2.3 电学性质 | 第53-54页 |
| 4.3 氧氩比对CuO:In薄膜的影响 | 第54-59页 |
| 4.3.1 微结构 | 第55-57页 |
| 4.3.2 光学性质 | 第57-58页 |
| 4.3.3 电学性质 | 第58-59页 |
| 4.4 衬底温度对CuO:In薄膜的影响 | 第59-65页 |
| 4.4.1 微结构 | 第60-63页 |
| 4.4.2 光学性质 | 第63-64页 |
| 4.4.3 电学性质 | 第64-65页 |
| 4.5 小结 | 第65-67页 |
| 5 工作总结与展望 | 第67-70页 |
| 5.1 工作总结 | 第67-68页 |
| 5.2 工作展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 个人简历、硕士期间成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |