| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号对照表 | 第12-14页 |
| 缩略语对照表 | 第14-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-25页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第17-18页 |
| 1.2 国内外发展现状 | 第18-23页 |
| 1.2.1 国外发展现状 | 第18-22页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第22-23页 |
| 1.3 本论文的主要工作 | 第23-25页 |
| 1.3.1 研究内容概述 | 第23-24页 |
| 1.3.2 文章结构 | 第24-25页 |
| 第二章 超薄高分辨率平板成像方法的理论基础 | 第25-39页 |
| 2.1 超薄高分辨率平板成像原理与图像重构过程 | 第25-31页 |
| 2.1.1 非相干光源的空间相干性 | 第25-27页 |
| 2.1.2 范西特-泽尼克定理 | 第27-30页 |
| 2.1.3 图像重构过程 | 第30-31页 |
| 2.2 超薄高分辨率平板成像系统中的PIC设计分析 | 第31-36页 |
| 2.2.1 SPIDER成像系统的信号传输过程 | 第32-33页 |
| 2.2.2 初代SPIDER系统中光子集成电路架构分析 | 第33-34页 |
| 2.2.3 阵列波导光栅的基本理论 | 第34-36页 |
| 2.3 本章小结 | 第36-39页 |
| 第三章 影响构建高质量U-V频谱图的因素分析 | 第39-61页 |
| 3.1 复相干因子影响因素的计算分析 | 第39-44页 |
| 3.1.1 光源线宽对复相干因子幅值的影响 | 第39-42页 |
| 3.1.2 光源复色性对复相干因子幅值的影响 | 第42-44页 |
| 3.1.3 阵列波导光栅信道数对复相干因子幅值的影响 | 第44页 |
| 3.2 U-V覆盖技术 | 第44-46页 |
| 3.3 模拟空间频率采样点与干涉条纹的对应关系 | 第46-51页 |
| 3.4 U-V覆盖影响因素的计算分析 | 第51-59页 |
| 3.4.1 透镜阵列排布及基线配对方式对频率覆盖的影响 | 第51-56页 |
| 3.4.2 子透镜占空比以及采样间隔对U-V覆盖的影响 | 第56-57页 |
| 3.4.3 增加信道数对提升U-V频谱完整度的影响 | 第57-59页 |
| 3.5 本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 重建图像仿真与结果分析 | 第61-79页 |
| 4.1 模拟图像重构过程 | 第61-65页 |
| 4.2 影响系统成像质量因素的模拟分析 | 第65-73页 |
| 4.2.1 基线配对方式对系统成像质量的影响 | 第65-68页 |
| 4.2.2 最大基线长度对系统分辨率的影响 | 第68-69页 |
| 4.2.3 关于子透镜占空比引起图像模糊的分析 | 第69-71页 |
| 4.2.4 采样间隔对成像质量的影响 | 第71页 |
| 4.2.5 阵列波导光栅信道数对成像质量的影响 | 第71-73页 |
| 4.3 提升超薄高分辨率平板成像系统性能的设想 | 第73-77页 |
| 4.4 本章小结 | 第77-79页 |
| 第五章 总结与展望 | 第79-81页 |
| 5.1 研究结论 | 第79-80页 |
| 5.2 研究展望 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-85页 |
| 致谢 | 第85-87页 |
| 作者简介 | 第87-88页 |
