摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5页 |
专用术语注释表 | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第8-19页 |
1.1 引言 | 第8-10页 |
1.2 电阻抗成像的研究背景与发展现状 | 第10-17页 |
1.2.1 电阻抗成像的研究意义 | 第10-13页 |
1.2.2 电阻抗成像的国内外研究现状 | 第13-15页 |
1.2.3 电阻抗成像面临的主要问题和难点 | 第15-17页 |
1.3 电阻抗成像算法综述 | 第17页 |
1.4 研究内容与论文结构 | 第17-19页 |
第二章 电阻抗成像基础知识研究 | 第19-28页 |
2.1 电阻抗成像原理简介 | 第19-20页 |
2.2 电阻抗成像数学模型的建立 | 第20-21页 |
2.3 正问题原理 | 第21-26页 |
2.3.1 正问题求解的基本方法 | 第21-22页 |
2.3.2 等价变分问题 | 第22-23页 |
2.3.3 场域的有限元离散 | 第23-25页 |
2.3.4 有限元剖分模型及正问题计算 | 第25-26页 |
2.4 逆问题原理 | 第26-27页 |
2.5 本章小结 | 第27-28页 |
第三章 频差电阻抗成像中权值处理方法研究 | 第28-37页 |
3.1 传统单加权频差电阻抗成像方法 | 第28-31页 |
3.2 双加权频差电阻抗成像算法研究 | 第31-33页 |
3.3 三频电阻抗成像成像算法研究 | 第33-34页 |
3.4 成像结果 | 第34-36页 |
3.5 本章小结 | 第36-37页 |
第四章 逆问题求解方法研究 | 第37-53页 |
4.1 最小二乘正则化方法求解多频电阻抗成像逆问题 | 第37-39页 |
4.1.1 正则化求解逆问题 | 第37-38页 |
4.1.2 正则化最优参数选择 | 第38-39页 |
4.2 偏最小二乘法求解逆问题 | 第39-41页 |
4.2.1 偏最小二乘法用于多频电阻抗成像当中的建模步骤 | 第39-40页 |
4.2.2 偏最小二乘法当中主成分数的确定方法 | 第40-41页 |
4.3 两种算法对比 | 第41-52页 |
4.3.1 仿真实验结果 | 第41-48页 |
4.3.2 物理模型实验 | 第48-52页 |
4.3.3 结论 | 第52页 |
4.4 本章小结 | 第52-53页 |
第五章 总结与展望 | 第53-55页 |
5.1 本文工作总结 | 第53-54页 |
5.2 工作展望 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-58页 |
附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第58-59页 |
附录2 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第59-60页 |
致谢 | 第60-61页 |