| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 前言 | 第12-14页 |
| 1.2 被动调Q激光器介绍 | 第14-18页 |
| 1.3 基于拓扑绝缘体被动调Q掺镨光纤激光器的背景介绍 | 第18-21页 |
| 1.4 本章小结 | 第21-22页 |
| 第二章 Pr:ZBLAN光纤及Bi_2Se_3基本理论 | 第22-34页 |
| 2.1 Pr~(3+)离子能级结构 | 第22-26页 |
| 2.2 Bi_2Se_3可饱和吸收原理及光学性质 | 第26-30页 |
| 2.2.1 Bi_2Se_3结构及可饱和吸收原理 | 第26-28页 |
| 2.2.2 Bi_2Se_3薄膜光学性质 | 第28-30页 |
| 2.3 Bi_2Se_3的制备方法 | 第30-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 被动调Q激光器基本原理及数值仿真 | 第34-52页 |
| 3.1 被动调Q激光器的基本原理与速率方程 | 第34-39页 |
| 3.1.1 被动调Q激光器的基本原理 | 第34-36页 |
| 3.1.2 被动调Q激光器的速率方程 | 第36-39页 |
| 3.2 被动调Q激光器的输出特性 | 第39-41页 |
| 3.3 橙光Bi_2Se_3被动调Q光纤激光器数值仿真 | 第41-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-52页 |
| 第四章 Pr:ZBLAN光纤橙光激光器实验研究 | 第52-76页 |
| 4.1 Pr:ZBLAN光纤激光器系统搭建 | 第52-60页 |
| 4.1.1 光纤耦合系统搭建 | 第52-57页 |
| 4.1.2 光纤镀膜反射镜的制备 | 第57-60页 |
| 4.2 橙光604nm Pr:ZBLAN光纤连续激光器的实验研究 | 第60-65页 |
| 4.2.1 Pr:ZBLAN光纤荧光光谱及吸收谱测试 | 第60-62页 |
| 4.2.2 604nm连续光激光器性能测试 | 第62-65页 |
| 4.3 橙光Bi_2Se_3 Pr:ZBLAN被动调Q激光器 | 第65-75页 |
| 4.3.1 Bi_2Se_3材料制备与表征 | 第65-69页 |
| 4.3.2 Bi_2Se_3橙光被动调Q激光器实验装置 | 第69-70页 |
| 4.3.3 Bi_2Se_3橙光被动调Q激光器实验结果与分析 | 第70-75页 |
| 4.4 本章小结 | 第75-76页 |
| 第五章 总结与展望 | 第76-80页 |
| 5.1 总结 | 第76-77页 |
| 5.2 展望 | 第77-80页 |
| 参考文献 | 第80-86页 |
| 硕士期间发表论文 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
