中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-29页 |
1.1 光催化研究概述 | 第9-13页 |
1.1.1 半导体光催化的机理与应用 | 第9-13页 |
1.1.1.1 半导体光催化的机理 | 第9-10页 |
1.1.1.2 半导体光催化的应用 | 第10-13页 |
1.2 助剂表面修饰增强半导体光催化活性的研究现状 | 第13-20页 |
1.2.1 电子助剂 | 第13-18页 |
1.2.1.1 贵金属助剂 | 第13-15页 |
1.2.1.2 石墨烯 | 第15页 |
1.2.1.3 过渡金属硫化物 | 第15-18页 |
1.2.1.4 过渡金属氢氧化物 | 第18页 |
1.2.2 空穴助剂 | 第18-20页 |
1.2.2.1 CoPi体系 | 第18-19页 |
1.2.2.2 金属氧化物 | 第19-20页 |
1.2.2.3 阴离子助剂 | 第20页 |
1.3 TiO_2半导体光催化材料制氢的研究现状 | 第20-27页 |
1.3.1 TiO_2光催化制氢的过程 | 第20-21页 |
1.3.2 TiO_2半导体的改性研究 | 第21-27页 |
1.4 本论文的研究内容及意义 | 第27-29页 |
第2章 rGO与MoS_x协同修饰TiO_2增强其光催化制氢性能 | 第29-48页 |
2.1 引言 | 第29-30页 |
2.2 实验部分 | 第30-34页 |
2.2.1 实验试剂与仪器 | 第30页 |
2.2.2 光催化材料的制备 | 第30-32页 |
2.2.2.1 GO和TiO_2的预处理 | 第30-31页 |
2.2.2.2 rGO/TiO_2复合材料的制备 | 第31页 |
2.2.2.3 MoS_x-rGO/TiO_2复合材料的制备 | 第31-32页 |
2.2.3 样品表征 | 第32-33页 |
2.2.4 光催化产氢性能测试 | 第33页 |
2.2.5 电化学测试 | 第33-34页 |
2.3 结果与讨论 | 第34-47页 |
2.3.1 MoS_x-rGO/TiO_2的合成示意图 | 第34-35页 |
2.3.2 MoS_x-rGO/TiO_2形貌和结构分析 | 第35-42页 |
2.3.2.1 FESEM与TEM分析 | 第35页 |
2.3.2.2 BET分析 | 第35-37页 |
2.3.2.3 XRD分析 | 第37-38页 |
2.3.2.4 XPS分析 | 第38-40页 |
2.3.2.5 Raman分析 | 第40-41页 |
2.3.2.6 UV-vis分析 | 第41-42页 |
2.3.3 MoS_x-rGO/TiO_2复合材料制氢性能 | 第42-44页 |
2.3.4 MoS_x-rGO/TiO_2复合材料制氢机理分析 | 第44-47页 |
2.4 本章小结 | 第47-48页 |
第3章 电子助剂MoS_x与空穴助剂MnO_x协同修饰TiO_2增强其光催化制氢性能 | 第48-66页 |
3.1 引言 | 第48-49页 |
3.2 实验部分 | 第49-52页 |
3.2.1 实验试剂与仪器 | 第49页 |
3.2.2 光催化材料的制备 | 第49-51页 |
3.2.2.1 MnO_x/TiO_2复合材料的制备 | 第49-50页 |
3.2.2.2 MoS_x-MnO_x/TiO_2复合材料的制备 | 第50-51页 |
3.2.3 样品表征 | 第51页 |
3.2.4 光催化产氢性能测试 | 第51页 |
3.2.5 电化学测试 | 第51-52页 |
3.3 结果与讨论 | 第52-65页 |
3.3.1 MoS_x-MnO_x/TiO_2的合成示意图 | 第52-53页 |
3.3.2 MoS_x-MnO_x/TiO_2形貌和结构分析 | 第53-59页 |
3.3.2.1 FESEM与TEM分析 | 第53-55页 |
3.3.2.2 XRD分析 | 第55-56页 |
3.3.2.3 XPS分析 | 第56-57页 |
3.3.2.4 Raman分析 | 第57-58页 |
3.3.2.5 UV-vis分析 | 第58-59页 |
3.3.3 MoS_x-MnO_x/TiO_2复合材料制氢性能 | 第59-62页 |
3.3.4 MoS_x-MnO_x/TiO_2复合材料制氢机理分析 | 第62-65页 |
3.4 本章小结 | 第65-66页 |
第4章 结论与展望 | 第66-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-78页 |
攻读硕士研究生期间已发表和待发表的论文 | 第78页 |