摘要 | 第2-3页 |
Abstract | 第3-4页 |
1 绪论 | 第7-22页 |
1.1 研究背景与意义 | 第7-8页 |
1.2 硫化氢的危害及脱除意义 | 第8-9页 |
1.3 硫化氢脱除常用的方法 | 第9-20页 |
1.3.1 湿法脱硫技术 | 第9-13页 |
1.3.2 干法脱硫技术 | 第13-20页 |
1.4 本文研究目标与研究思路 | 第20-22页 |
1.4.1 研究目标 | 第20页 |
1.4.2 研究思路 | 第20-22页 |
2 实验部分 | 第22-26页 |
2.1 实验原料 | 第22页 |
2.2 实验仪器 | 第22-23页 |
2.3 吸附剂的制备 | 第23页 |
2.4 吸附剂的表征 | 第23-24页 |
2.4.1 X射线粉末衍射分析(XRD) | 第23-24页 |
2.4.2 氮气物理吸附表征 | 第24页 |
2.4.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第24页 |
2.5 吸附剂的性能评价测试 | 第24-26页 |
2.5.1 性能评价装置图 | 第24-25页 |
2.5.2 固定床动态吸附 | 第25页 |
2.5.3 穿透吸附量 | 第25页 |
2.5.4 吸附剂的再生 | 第25-26页 |
3 负载型铜基低温脱硫吸附剂的研究 | 第26-43页 |
3.1 不同载体类型负载型铜基低温脱硫吸附剂 | 第26-30页 |
3.1.1 引言 | 第26页 |
3.1.2 负载型铜基低温脱硫吸附剂的制备 | 第26页 |
3.1.3 负载型铜基低温脱硫吸附剂的脱硫性能评价 | 第26-27页 |
3.1.4 N_2-物理吸附分析 | 第27-28页 |
3.1.5 X射线粉末衍射分析(XRD) | 第28-30页 |
3.2 CuO/MCM-41脱硫吸附剂低温脱硫性能研究 | 第30-36页 |
3.2.1 引言 | 第30页 |
3.2.2 CMx系列脱硫吸附剂的脱硫性能评价 | 第30-31页 |
3.2.3 N_2-物理吸附分析 | 第31-33页 |
3.2.4 X射线粉末衍射分析(XRD) | 第33-34页 |
3.2.5 XPS分析 | 第34-36页 |
3.3 CuO/SiO_2脱硫吸附剂低温脱硫性能研究 | 第36-42页 |
3.3.1 引言 | 第36页 |
3.3.2 CSx系列脱硫剂的脱硫性能评价 | 第36-37页 |
3.3.3 N_2物理吸附分析 | 第37-39页 |
3.3.4 XRD分析 | 第39页 |
3.3.5 XPS分析 | 第39-42页 |
3.4 本章小节 | 第42-43页 |
4 反应工艺条件对负载型金属氧化物脱硫吸附剂的影响 | 第43-48页 |
4.1 反应空速对脱硫吸附剂脱硫性能的影响 | 第43-44页 |
4.2 反应温度对脱硫吸附剂脱硫性能的影响 | 第44-45页 |
4.3 平衡气CO_2对吸附剂脱硫性能的影响 | 第45-47页 |
4.4 本章小结 | 第47-48页 |
5 粘土脱硫吸附剂的研究 | 第48-55页 |
5.1 引言 | 第48页 |
5.2 CNx系列脱硫剂的脱硫性能评价 | 第48-49页 |
5.3 N_2物理吸附分析 | 第49-50页 |
5.4 XRD分析 | 第50-51页 |
5.5 XPS分析 | 第51-54页 |
5.6 本章小结 | 第54-55页 |
结论 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-60页 |
致谢 | 第60-62页 |