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均匀性模式及相关准则的研究

中文摘要第5-8页
Abstract第8-12页
第一章 绪论第17-25页
    1.1 概述第17-22页
    1.2 论文创新点及结构第22-25页
第二章 设计筛选准则及均匀性模式的概念第25-43页
    2.1 设计筛选准则第25-33页
        2.1.1 最小低阶混杂准则第25-27页
        2.1.2 广义最小低阶混杂准则第27-28页
        2.1.3 最小低阶矩混杂准则第28-30页
        2.1.4 正交性准则(B-准则)第30-33页
    2.2 偏差准则第33-38页
        2.2.1 偏差的一般定义第33-35页
        2.2.2 中心化L_2偏差第35-36页
        2.2.3 可卷型L_2偏差第36页
        2.2.4 离散偏差第36-37页
        2.2.5 Lee偏差第37-38页
    2.3 均匀性模式第38-43页
        2.3.1 投影偏差型第38-39页
        2.3.2 二水平设计的均匀性模式第39-43页
第三章 对称因析设计的均匀性模式第43-54页
    3.1 投影偏差第44-46页
    3.2 MPU准则的统计合理性第46-49页
    3.3 均匀性模式的一个下界第49-50页
    3.4 数值例子第50-54页
第四章 二三混水平因析设计的均匀性模式第54-65页
    4.1 投影偏差第54-57页
    4.2 MPU准则的统计合理性第57-61页
    4.3 均匀性模式的一个下界第61-62页
    4.4 数值例子第62-65页
第五章 非对称因析设计的均匀性模式第65-80页
    5.1 离散偏差D(P;γ)及其性质第66-72页
    5.2 投影偏差第72-73页
    5.3 MPU准则的统计合理性第73-77页
    5.4 均匀性模式的一个下界第77-78页
    5.5 数值例子第78-80页
第六章 最小低阶投影均匀设计的效率第80-85页
    6.1 模型不确定下的设计效率准则第80-82页
    6.2 MPU设计的设计效率第82-84页
    6.3 数值例子第84-85页
第七章 均匀性模式在补设计中的应用第85-93页
    7.1 补设计的概念第85-86页
    7.2 均匀性模式在补设计中的应用第86-89页
    7.3 MPU规则及数值例子第89-93页
第八章 结束语第93-94页
参考文献第94-101页
攻读博士期间完成的科研成果第101页
攻读博士期间参加的学术活动情况第101-102页
主持或参与的科研项目第102-103页
致谢第103页

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