日盲紫外带通滤光片膜系设计与镀膜工艺研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-28页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第9页 |
| 1.2 介质薄膜光学特性的理论计算与设计方法 | 第9-14页 |
| 1.2.1 单一界面反射率与等效界面思想 | 第9-10页 |
| 1.2.2 介质薄膜的光学特性 | 第10-11页 |
| 1.2.3 对称膜系的等效层理论 | 第11-13页 |
| 1.2.4 台伦设计方法 | 第13-14页 |
| 1.3 紫外带通滤光片 | 第14-22页 |
| 1.3.1 紫外带通滤光片基本特征及研制现状 | 第14-16页 |
| 1.3.2 常用紫外光学薄膜材料 | 第16-20页 |
| 1.3.3 紫外带通滤光片分类 | 第20-22页 |
| 1.4 紫外光学薄膜沉积技术 | 第22-25页 |
| 1.4.1 电阻加热蒸发 | 第22-23页 |
| 1.4.2 电子束加热蒸发 | 第23页 |
| 1.4.3 离子辅助沉积 | 第23-24页 |
| 1.4.4 影响薄膜性能的工艺因素 | 第24-25页 |
| 1.5 光学薄膜的特性 | 第25-27页 |
| 1.5.1 薄膜的光学性质 | 第25-26页 |
| 1.5.2 薄膜的机械性质 | 第26页 |
| 1.5.3 薄膜的其它性质 | 第26-27页 |
| 1.6 本文主要研究内容 | 第27-28页 |
| 第2章 日盲紫外滤光膜设计、制备及性能表征方法 | 第28-38页 |
| 2.1 Opti Layer膜系设计软件 | 第28-31页 |
| 2.2 ORTUS-700型电子束真空镀膜设备 | 第31-33页 |
| 2.3 薄膜样品的制备工艺流程 | 第33-34页 |
| 2.4 薄膜性能表征方法 | 第34-38页 |
| 2.4.1 光学性能的测量 | 第34-35页 |
| 2.4.2 薄膜相结构、晶粒尺寸、晶格畸变表征 | 第35页 |
| 2.4.3 薄膜表面形貌表征 | 第35-36页 |
| 2.4.4 薄膜成分的分析 | 第36-37页 |
| 2.4.5 机械性能测试方法 | 第37-38页 |
| 第3章 日盲紫外带通滤光片膜系设计 | 第38-46页 |
| 3.1 设计技术指标 | 第38页 |
| 3.2 基材和膜材的选取 | 第38-39页 |
| 3.3 初始膜系的确定 | 第39-40页 |
| 3.4 膜系结构的优化 | 第40-44页 |
| 3.4.1 优化通带 | 第40-41页 |
| 3.4.2 展宽截止带 | 第41-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-46页 |
| 第4章 沉积温度对HfO_2薄膜性能的影响 | 第46-60页 |
| 4.1 HfO_2薄膜镀制工艺 | 第46页 |
| 4.2 光学性能 | 第46-52页 |
| 4.2.1 光谱特性 | 第46-48页 |
| 4.2.2 光学常数 | 第48-52页 |
| 4.3 相结构、晶粒尺寸及晶格畸变 | 第52-54页 |
| 4.4 表面形貌 | 第54-58页 |
| 4.5 薄膜成分 | 第58-59页 |
| 4.6 本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 沉积温度对Mg F2薄膜性能的影响 | 第60-73页 |
| 5.1 Mg F_2薄膜镀制工艺 | 第60页 |
| 5.2 光学性能 | 第60-66页 |
| 5.2.1 光谱特性 | 第60-62页 |
| 5.2.2 光学常数 | 第62-66页 |
| 5.3 相结构、晶粒尺寸及晶格畸变 | 第66-67页 |
| 5.4 表面形貌 | 第67-71页 |
| 5.5 薄膜成分 | 第71-72页 |
| 5.6 本章小结 | 第72-73页 |
| 第6章 日盲紫外带通滤光片的镀制与性能表征 | 第73-81页 |
| 6.1 日盲紫外带通滤光片镀制工艺 | 第73页 |
| 6.2 日盲紫外带通滤光片镀制流程 | 第73-74页 |
| 6.3 紫外滤光片样品性能检测 | 第74-78页 |
| 6.3.1 光谱特性测量 | 第74-76页 |
| 6.3.2 光学不稳定性测试 | 第76-78页 |
| 6.3.3 机械性能测试 | 第78页 |
| 6.4 误差分析 | 第78-79页 |
| 6.5 本章小结 | 第79-81页 |
| 结论 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
