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碲基硫系化合物材料的忆阻特性研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
1 绪论第10-35页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 非易失性存储器现状第11-16页
    1.3 忆阻器简介第16-20页
    1.4 忆阻器的研究进展第20-23页
    1.5 常见的忆阻机制第23-33页
    1.6 本文选题意义及研究内容第33-35页
2 硫系化合物忆阻器制备工艺与测试方法第35-41页
    2.1 硫系化合物忆阻器制备工艺第35-39页
    2.2 忆阻器测试方法及系统第39-41页
3 Ge_2Sb_2Te_5忆阻器在非晶态下的忆阻特性研究第41-59页
    3.1 引言第41-43页
    3.2 Ge_2Sb_2Te_5忆阻器原型器件的制备与薄膜表征第43-46页
    3.3 基于非活性电极的Ge_2Sb_2Te_5忆阻器原型器件第46-51页
    3.4 采用活性Ag电极的Ge_2Sb_2Te_5忆阻器原型器件第51-58页
    3.5 本章小结第58-59页
4 Ag_5In_5Sb_(60)Te_(30)忆阻器的电阻调控研究第59-80页
    4.1 引言第59-61页
    4.2 Ag_5In_5Sb_(60)Te_(30)忆阻器原型器件的制备与薄膜表征第61-63页
    4.3 AgInSbTe忆阻器的直流Ⅰ-Ⅴ特性研究第63-65页
    4.4 AgInSbTe忆阻器的阻变机制第65-69页
    4.5 AgInSbTe忆阻器的电阻调控特性第69-73页
    4.6 同一器件中单极性和双极性阻变模式的共存第73-78页
    4.7 本章小结第78-80页
5 Sb_2Te_3忆阻器原型器件特性研究第80-96页
    5.1 引言第80-82页
    5.2 Sb_2Te_3忆阻器原型器件的制备和薄膜表征第82-84页
    5.3 Sb_2Te_3忆阻器原型器件的直流Ⅰ-Ⅴ特性第84-89页
    5.4 Sb_2Te_3忆阻器在脉冲激励下的电学特性第89-91页
    5.5 Sb_2Te_3忆阻器原型器件的阻变机制第91-94页
    5.6 本章小结第94-96页
6 结论与展望第96-100页
    6.1 结论第96-98页
    6.2 下一步研究展望第98-100页
致谢第100-101页
参考文献第101-118页
附录1 攻读博士学位期间发表的论文目录第118-119页
附录2 攻读博士学位期间申请的发明专利第119页

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