| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-33页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 金属纳米结构的构筑方法 | 第11-21页 |
| 1.2.1 溶液合成法 | 第12-13页 |
| 1.2.2 刻蚀方法 | 第13-20页 |
| 1.2.3 模板诱导生长法 | 第20-21页 |
| 1.3 胶体刻蚀技术构筑金属纳米结构及应用 | 第21-25页 |
| 1.3.1 金属纳米碗阵列 | 第21-23页 |
| 1.3.2 紧密堆积胶体球上的金属膜 | 第23-24页 |
| 1.3.3 金属纳米孔阵列 | 第24页 |
| 1.3.4 金属中空纳米球阵列和纳米帽阵列 | 第24-25页 |
| 1.4 等离子体结构在传感和化学成像方面的应用 | 第25-32页 |
| 1.4.1 基于粒子-粒子耦合的比色传感 | 第25-26页 |
| 1.4.2 纳米粒子增强的表面等离子体共振 | 第26-27页 |
| 1.4.3 基于瑞利散射的传感和成像 | 第27-28页 |
| 1.4.4 基于折射率改变的光学检测 | 第28-30页 |
| 1.4.5 表面增强拉曼散射 | 第30-32页 |
| 1.5 本文研究思路及主要内容 | 第32-33页 |
| 第二章 模板诱导电化学沉积构筑金纳米粒子阵列 | 第33-47页 |
| 2.1 引言 | 第33-34页 |
| 2.2 实验部分 | 第34-36页 |
| 2.2.1 试剂与仪器 | 第34页 |
| 2.2.2 模板的构筑与单分子层修饰 | 第34-35页 |
| 2.2.3 构筑图案化工作电极 | 第35页 |
| 2.2.4 电化学沉积金纳米粒子 | 第35-36页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第36-45页 |
| 2.3.1 金纳米粒子阵列的构筑 | 第36-38页 |
| 2.3.2 沉积电压对纳米粒子尺寸的影响 | 第38-42页 |
| 2.3.3 沉积时间对金纳米粒子尺寸的影响 | 第42-45页 |
| 2.3.4 构筑其它周期的金粒子阵列 | 第45页 |
| 2.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 第三章 站立式纳米天线阵列的构筑及热点调控 | 第47-63页 |
| 3.1 引言 | 第47-48页 |
| 3.2 试剂与仪器 | 第48-49页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第49-62页 |
| 3.3.1 站立式纳米天线的构筑 | 第49-51页 |
| 3.3.2 优化胶体球刻蚀时间 | 第51-53页 |
| 3.3.3 银膜厚度对 SERS 检测性能的影响 | 第53-55页 |
| 3.3.4 时域有限差分的方法进行理论模拟 | 第55-59页 |
| 3.3.5 最低检测浓度与重复性 | 第59-60页 |
| 3.3.6 4-MPy 在站立式纳米天线结构上的增强因子的计算 | 第60-62页 |
| 3.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 第四章 银纳米锥阵列的构筑及其在 SERS 检测中的应用 | 第63-85页 |
| 4.1 引言 | 第63-64页 |
| 4.2 实验部分 | 第64-66页 |
| 4.2.1 试剂与仪器 | 第64-65页 |
| 4.2.2 多种形貌的硅锥阵列的构筑 | 第65-66页 |
| 4.2.3 银纳米锥阵列的构筑 | 第66页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第66-83页 |
| 4.3.1 银纳米锥阵列的构筑 | 第66页 |
| 4.3.2 不同形状的硅锥阵列的构筑 | 第66-67页 |
| 4.3.3 硅锥形貌对于银纳米锥结构形貌的影响 | 第67-70页 |
| 4.3.4 倾斜程度对银纳米锥阵列的 SERS 信号的影响 | 第70-75页 |
| 4.3.5 硅锥高度对银纳米锥的 SERS 信号的影响 | 第75-81页 |
| 4.3.6 银纳米锥阵列的表面增强拉曼性能测试 | 第81-83页 |
| 4.4 本章小结 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-105页 |
| 攻读博士期间发表论文 | 第105-107页 |
| 作者简介 | 第107-108页 |
| 致谢 | 第108页 |
