| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第9-10页 |
| 1.2 强流脉冲电子束辐照表面改性技术及其研究现状 | 第10-20页 |
| 1.2.1 脉冲功率技术与强流脉冲电子束发生器 | 第10-13页 |
| 1.2.2 强流脉冲电子束与材料的相互作用 | 第13-15页 |
| 1.2.3 强流脉冲电子束辐照技术在材料表面改性中的应用 | 第15-20页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验材料及方法 | 第21-27页 |
| 2.1 实验材料 | 第21页 |
| 2.2 全方位离子注入与沉积设备 | 第21-23页 |
| 2.3 电子束辐照设备 | 第23-24页 |
| 2.4 实验方案 | 第24页 |
| 2.5 涂层表征手段及分析方法 | 第24-27页 |
| 2.5.1 扫描电子显微镜 | 第24-25页 |
| 2.5.2 X 射线衍射仪 | 第25页 |
| 2.5.3 显微硬度仪 | 第25页 |
| 2.5.4 膜基结合力测试 | 第25-26页 |
| 2.5.5 摩擦磨损性能测试 | 第26-27页 |
| 第3章 电子束发生器的研制与放电特性研究 | 第27-48页 |
| 3.1 Marx 高压脉冲电源的研制 | 第27-33页 |
| 3.1.1 能量的储存 | 第28-29页 |
| 3.1.2 Marx 发生器 | 第29-30页 |
| 3.1.3 火花间隙开关 | 第30-31页 |
| 3.1.4 脉冲功率测量及诊断方式 | 第31-33页 |
| 3.2 Marx 高压脉冲电源的放电调试 | 第33-35页 |
| 3.3 铜阴极发射源的研制 | 第35-40页 |
| 3.3.1 发射单元对束流的影响 | 第36-39页 |
| 3.3.2 发射机制对电极形貌的影响 | 第39-40页 |
| 3.4 放电束流的影响因素 | 第40-47页 |
| 3.4.1 工作距离和磁场对束流的影响 | 第40-41页 |
| 3.4.2 气氛状态对系统放电电流的影响 | 第41-44页 |
| 3.4.3 储能电容对束流的影响 | 第44-45页 |
| 3.4.4 发射区域对束流的影响 | 第45-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 辐照处理涂层的制备及结构研究 | 第48-57页 |
| 4.1 硬质薄膜 TiN 及 TiAlN 的制备 | 第48-50页 |
| 4.2 辐照处理后涂层的表面形貌和成分分析 | 第50-54页 |
| 4.2.1 TiN 涂层辐照后形貌及成分 | 第50-52页 |
| 4.2.2 TiAlN 涂层辐照后形貌及成分 | 第52-54页 |
| 4.3 辐照处理后涂层的物相分析 | 第54-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 辐照涂层的机械性能研究 | 第57-70页 |
| 5.1 涂层表面显微硬度测试 | 第57-58页 |
| 5.2 膜基结合力研究 | 第58-62页 |
| 5.3 摩擦磨损性能研究 | 第62-66页 |
| 5.4 磨损机制研究 | 第66-69页 |
| 5.4.1 辐照次数对磨损机制的影响 | 第66-67页 |
| 5.4.2 辐照真空度对磨损机制的影响 | 第67-69页 |
| 5.5 本章小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 致谢 | 第76页 |