| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 引言 | 第12-14页 |
| 1.2 氧化镓材料的基本性质 | 第14-16页 |
| 1.3 紫外探测技术 | 第16-21页 |
| 1.3.1 紫外线的分类和特点 | 第16-17页 |
| 1.3.2 光电探测器的工作原理 | 第17页 |
| 1.3.3 光电探测器的主要结构类型 | 第17-18页 |
| 1.3.4 光电探测器的性能参数 | 第18-21页 |
| 1.4 X射线探测器 | 第21-24页 |
| 1.4.1 X射线及其探测 | 第21页 |
| 1.4.2 X射线探测器种类 | 第21-22页 |
| 1.4.3 直接型X射线探测主要的光电导材料 | 第22-24页 |
| 第2章 实验仪器、原理及研究方法 | 第24-38页 |
| 2.1 薄膜生长与器件制作装置介绍 | 第24-28页 |
| 2.1.1 射频磁控溅射系统 | 第24-25页 |
| 2.1.2 热蒸发镀膜系统 | 第25-26页 |
| 2.1.3 管式热退火炉 | 第26-27页 |
| 2.1.4 紫外光刻技术 | 第27-28页 |
| 2.2 薄膜表征技术 | 第28-33页 |
| 2.2.1 原子力显微镜 | 第28-29页 |
| 2.2.2 X射线衍射 | 第29-30页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜 | 第30-31页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱 | 第31-32页 |
| 2.2.5 其它薄膜表征手段 | 第32-33页 |
| 2.3 器件测试方法及技术 | 第33-38页 |
| 2.3.1 光电测试系统 | 第33-34页 |
| 2.3.2 光响应速度测试 | 第34-35页 |
| 2.3.3 柔性器件弯曲测试 | 第35-38页 |
| 第3章 表面等离激元增强的Ga2O_3紫外探测器的研究 | 第38-61页 |
| 3.1 引言 | 第38-40页 |
| 3.2 基于金属Ga/Ga2O_3纳米复合薄膜的增强型日盲紫外探测器 | 第40-55页 |
| 3.2.1 Ga/Ga2O_3纳米复合薄膜的制备 | 第40-41页 |
| 3.2.2 Ga/Ga2O_3纳米复合薄膜结构的验证 | 第41-43页 |
| 3.2.3 Ga/Ga2O_3纳米复合薄膜的形貌、结构和光学性能 | 第43-46页 |
| 3.2.4 基于金属Ga/Ga2O_3纳米复合薄膜的紫外探测器的研制 | 第46-47页 |
| 3.2.5 预沉积Ga层厚度对光电探测器性能的影响 | 第47-49页 |
| 3.2.6 Ga/Ga2O_3纳米复合薄膜的光响应增强机理的探究 | 第49-53页 |
| 3.2.7 Ga/Ga2O_3纳米复合薄膜中电场的模拟 | 第53-54页 |
| 3.2.8 基于纳米复合薄膜的表面等离激元的优势 | 第54-55页 |
| 3.2.9 小结 | 第55页 |
| 3.3 基于Al纳米粒子表面等离激元增强的Ga2O_3紫外探测器 | 第55-61页 |
| 3.3.1 器件表面大面积均匀Al纳米粒子的获得 | 第55-59页 |
| 3.3.2 Al纳米粒子增强的Ga2O_3紫外探测器的光电性能 | 第59-60页 |
| 3.3.3 小结 | 第60-61页 |
| 第4章 非晶Ga2O_3基超快响应日盲紫外探测器 | 第61-81页 |
| 4.1 引言 | 第61-62页 |
| 4.2 刚性石英衬底上的非晶Ga2O_3紫外探测器 | 第62-75页 |
| 4.2.1 石英衬底上非晶Ga2O_3薄膜的生长 | 第62-63页 |
| 4.2.2 不同溅射氧流量下非晶Ga2O_3薄膜的基本性能 | 第63-64页 |
| 4.2.3 溅射氧流量对非晶Ga2O_3紫外探测器性能的影响 | 第64-75页 |
| 4.3 柔性PEN衬底上的非晶Ga2O_3紫外探测器 | 第75-80页 |
| 4.3.1 柔性PEN衬底上器件的制备 | 第75-76页 |
| 4.3.2 柔性非晶Ga2O_3紫外探测器的基本性能 | 第76-78页 |
| 4.3.3 柔性非晶Ga2O_3探测器的弯曲测试和疲劳测试 | 第78-80页 |
| 4.4 小结 | 第80-81页 |
| 第5章 基于非晶Ga2O_3的柔性X射线探测器研究 | 第81-95页 |
| 5.1 引言 | 第81-82页 |
| 5.2 柔性非晶Ga2O_3基X射线探测器的研制 | 第82-83页 |
| 5.3 柔性非晶Ga2O_3探测器的紫外响应特性 | 第83-84页 |
| 5.4 柔性a-Ga2O_3探测器对X射线源的响应特性 | 第84-88页 |
| 5.5 a-Ga2O_3探测器对UV和X射线辐照响应速度的分析 | 第88-90页 |
| 5.6 溅射氧分压对探测器响应性能影响机理的分析 | 第90-93页 |
| 5.7 柔性a-Ga2O_3X射线探测器的弯曲和疲劳测试 | 第93-94页 |
| 5.8 结论 | 第94-95页 |
| 第6章 总结 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-109页 |
| 个人简历及发表文章目录 | 第109-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
