氧化铪为过渡层生长蓝宝石红外窗口增透保护膜的研究

摘要	第4-5页
Abstract	第5-6页
第1章 绪论	第10-19页
1.1 课题研究背景及意义	第10-12页
1.2 蓝宝石改性研究现状	第12-15页
1.2.1 蓝宝石增透保护研究	第12-14页
1.2.2 光学窗口表面疏水性研究	第14-15页
1.3 蓝宝石增透保护膜的选择	第15-17页
1.3.1 蓝宝石增透保护膜的选择	第15-16页
1.3.2 氧化铪的性质及应用	第16-17页
1.4 本文主要研究内容	第17-19页
第2章 材料制备及测试方法	第19-28页
2.1 引言	第19页
2.2 SiO_2/HfO_2薄膜的制备	第19-23页
2.2.1 实验装置及原理	第19-20页
2.2.2 工艺参数的选择	第20-22页
2.2.3 薄膜制备工艺流程	第22-23页
2.2.4 镀膜蓝宝石热处理工艺流程	第23页
2.3 镀膜蓝宝石表面疏水性涂层的制备	第23-24页
2.4 薄膜及镀膜蓝宝石测试分析	第24-27页
2.4.1 薄膜结构成分及形貌测试	第24-25页
2.4.2 镀膜蓝宝石光学性能测试	第25-26页
2.4.3 镀膜蓝宝石机械性能测试	第26-27页
2.4.4 镀膜蓝宝石表面疏水性测试	第27页
2.5 本章小结	第27-28页
第3章 HfO_2薄膜的制备及退火工艺研究	第28-49页
3.1 引言	第28页
3.2 膜系结构设计	第28-31页
3.2.1 SiO_2/HfO_2膜层厚度优化	第28-29页
3.2.2 HfO_2厚度对蓝宝石透过率的影响	第29-30页
3.2.3 膜系结构偏差分析	第30-31页
3.3 工艺参数对 HfO_2薄膜沉积速率的影响	第31-34页
3.3.1 气体流量比对薄膜沉积速率的影响	第32页
3.3.2 射频功率对薄膜沉积速率的影响	第32-33页
3.3.3 溅射气压对薄膜沉积速率的影响	第33-34页
3.4 工艺参数对 HfO_2薄膜成分影响	第34-39页
3.4.1 气体流量比对薄膜成分的影响	第35-37页
3.4.2 射频功率对薄膜成分的影响	第37-38页
3.4.3 退火温度对薄膜成分的影响	第38-39页
3.5 工艺参数对 HfO_2薄膜结构的影响	第39-43页
3.5.1 气体流量比对薄膜结构的影响	第40-41页
3.5.2 射频功率对薄膜结构的影响	第41-42页
3.5.3 退火温度对薄膜结构的影响	第42-43页
3.6 工艺参数对 HfO_2薄膜光学常数的影响	第43-46页
3.6.1 气体流量比对薄膜折射率的影响	第43-44页
3.6.2 射频功率对薄膜折射率的影响	第44-45页
3.6.3 溅射气压对薄膜折射率的影响	第45-46页
3.6.4 退火温度对薄膜光学常数的影响	第46页
3.7 退火工艺对 HfO_2薄膜力学性能的影响	第46-47页
3.8 本章小结	第47-49页
第4章 HfO_2中间层对蓝宝石性能的影响	第49-60页
4.1 引言	第49页
4.2 HfO_2中间层对薄膜形貌的影响	第49-51页
4.3 HfO_2中间层对薄膜附着力的影响	第51-54页
4.4 HfO_2中间层对蓝宝石红外透过率的影响	第54-56页
4.4.1 中间层对蓝宝石透过率的影响	第54-55页
4.4.2 温度对蓝宝石透过率的影响	第55-56页
4.5 HfO_2中间层对抗激光损伤性能的影响	第56-58页
4.6 本章小结	第58-60页
第5章 镀膜蓝宝石表面疏水性研究	第60-65页
5.1 引言	第60页
5.2 改性处理对蓝宝石润湿性的影响	第60-62页
5.3 改性参数对疏水涂层成分的影响	第62-63页
5.4 改性处理对蓝宝石透过率的影响	第63-64页
5.5 本章小结	第64-65页
结论	第65-66页
参考文献	第66-73页
致谢	第73页