| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第13-35页 |
| 1.1 研究意义 | 第13-14页 |
| 1.2 直线加速器横向截面测量的国内外现状 | 第14-25页 |
| 1.2.1 基于光学的横向截面测量 | 第14-16页 |
| 1.2.2 基于扫描丝的截面测量 | 第16-19页 |
| 1.2.3 直线加速器束流发射度的测量 | 第19-25页 |
| 1.3 电子储存环横向截面测量国内外现状 | 第25-34页 |
| 1.3.1 X射线成像法 | 第27-32页 |
| 1.3.2 同步光干涉法 | 第32-33页 |
| 1.3.3 同步光投影法 | 第33-34页 |
| 1.4 论文的主要内容和创新点 | 第34-35页 |
| 第2章 束流横向截面测量理论 | 第35-51页 |
| 2.1 束流横向截面、发射度、束流尺寸 | 第35-38页 |
| 2.1.1 束流发射度 | 第35-36页 |
| 2.1.2 束流分布与束流尺寸 | 第36-38页 |
| 2.2 直线加速器束流发射度测量原理 | 第38-41页 |
| 2.2.1 HLS Ⅱ直线加速器束流发射度的测量 | 第38-41页 |
| 2.3 同步光的基本性质 | 第41-45页 |
| 2.3.1 同步辐射光子通量 | 第41-42页 |
| 2.3.2 辐射角分布的标准差 | 第42-43页 |
| 2.3.3 辐射源的尺寸和发散角 | 第43-44页 |
| 2.3.4 同步辐射的振幅和相位 | 第44-45页 |
| 2.4 同步光干涉法测量束团尺寸原理 | 第45-51页 |
| 2.4.1 范西特-泽尼克定理 | 第47-49页 |
| 2.4.2 干涉条纹的可见度与相干度 | 第49页 |
| 2.4.3 同步光双缝干涉条纹的强度分布 | 第49-51页 |
| 第3章 HLS Ⅱ注入器束斑检测系统 | 第51-72页 |
| 3.1 注入器束斑检测系统综述 | 第51-53页 |
| 3.2 系统布局及标定 | 第53-61页 |
| 3.2.1 测量屏的控制 | 第53-55页 |
| 3.2.2 屏移动的标定 | 第55-57页 |
| 3.2.3 光学系统布局 | 第57页 |
| 3.2.4 光学系统的标定 | 第57-59页 |
| 3.2.5 Prosilica GE680相机及线性度测试 | 第59-61页 |
| 3.3 数据处理 | 第61-62页 |
| 3.4 误差分析 | 第62-63页 |
| 3.5 测量软件界面 | 第63-65页 |
| 3.6 HLS Ⅱ注入器束斑检测系统应用举例 | 第65-67页 |
| 3.6.1 调试直线加速器 | 第65页 |
| 3.6.2 直线加速器束流发射度的测量 | 第65-67页 |
| 3.7 HLS Ⅱ注入器同步光监视器 | 第67-72页 |
| 3.7.1 理论参数 | 第67-68页 |
| 3.7.2 同步光监视器的设计 | 第68-70页 |
| 3.7.3 成像系统的标定 | 第70页 |
| 3.7.4 实验结果 | 第70-72页 |
| 第4章 HLS Ⅱ储存环横向截面测量系统 | 第72-107页 |
| 4.1 HLS Ⅱ储存环的基本参数 | 第72-74页 |
| 4.2 同步光成像法测量系统 | 第74-95页 |
| 4.2.1 光学系统元件布局 | 第74-76页 |
| 4.2.2 光学系统的标定 | 第76-78页 |
| 4.2.3 系统模拟 | 第78-83页 |
| 4.2.4 误差分析 | 第83-88页 |
| 4.2.5 数据处理 | 第88-89页 |
| 4.2.6 软件开发 | 第89-95页 |
| 4.3 同步光干涉法测量系统 | 第95-107页 |
| 4.3.1 光学系统元件布局及标定 | 第95-98页 |
| 4.3.2 狭缝制作 | 第98-100页 |
| 4.3.3 系统模拟 | 第100-103页 |
| 4.3.4 数据处理 | 第103-104页 |
| 4.3.5 误差分析 | 第104-106页 |
| 4.3.6 软件开发 | 第106-107页 |
| 第5章 同步光截面测量系统的相关实验 | 第107-119页 |
| 5.1 同步光成像法测量系统测量横向截面 | 第107-109页 |
| 5.1.1 低流强下测量结果 | 第107-108页 |
| 5.1.2 注入时束团尺寸随流强的变化 | 第108-109页 |
| 5.2 同步光干涉法测量系统测量横向截面尺寸 | 第109-112页 |
| 5.2.1 固定狭缝间距实验 | 第109-110页 |
| 5.2.2 不同狭缝间距实验 | 第110-112页 |
| 5.3 联合干涉法与成像法测量束流发射度与能散 | 第112-119页 |
| 5.3.1 研究目的 | 第112-113页 |
| 5.3.2 国内外关于能散流强依赖性的研究 | 第113-115页 |
| 5.3.3 测量原理 | 第115页 |
| 5.3.4 测量结果 | 第115-119页 |
| 第6章 总结与展望 | 第119-121页 |
| 参考文献 | 第121-124页 |
| 附录 | 第124-131页 |
| 附录1 | 第124页 |
| 附录2 | 第124-128页 |
| 附录3 | 第128-131页 |
| 致谢 | 第131-132页 |
| 在读期间发表的学术论文和科研情况 | 第132-133页 |