| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 ZnO薄膜概述 | 第10-12页 |
| 1.3 F掺杂ZnO (FZO)薄膜概述 | 第12-14页 |
| 1.4 Al掺杂ZnO (AZO)薄膜概述 | 第14-15页 |
| 1.5 H在ZnO基薄膜中的作用 | 第15-16页 |
| 1.6 本课题的研究意义及内容 | 第16-18页 |
| 第2章 实验方法 | 第18-25页 |
| 2.1 实验材料 | 第18页 |
| 2.2 靶材的制备 | 第18-20页 |
| 2.3 薄膜的制备 | 第20-22页 |
| 2.3.1 基底的预处理 | 第20-21页 |
| 2.3.2 薄膜的沉积 | 第21页 |
| 2.3.3 薄膜制备的工艺参数 | 第21-22页 |
| 2.4 薄膜的表征 | 第22-25页 |
| 2.4.1 薄膜厚度的表征 | 第22页 |
| 2.4.2 薄膜晶体结构的表征 | 第22-23页 |
| 2.4.3 薄膜电学性能的表征 | 第23页 |
| 2.4.4 薄膜光学性能的表征 | 第23-25页 |
| 第3章 反应溅射法制备的ZnO薄膜结构和透明导电性能 | 第25-40页 |
| 3.1 反应溅射法制备的ZnO薄膜结构 | 第25-29页 |
| 3.2 反应溅射法制备的ZnO薄膜的电学性能 | 第29-33页 |
| 3.3 反应溅射法制备的ZnO薄膜的光学性能 | 第33-37页 |
| 3.4 ZnO薄膜的品质因子 | 第37-38页 |
| 3.5 本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 反应溅射法制备的FZO薄膜结构和透明导电性能 | 第40-51页 |
| 4.1 反应溅射法制备的FZO薄膜结构 | 第40-43页 |
| 4.2 反应溅射法制备的FZO薄膜的电学性能 | 第43-46页 |
| 4.3 反应溅射法制备的FZO薄膜的光学性能 | 第46-48页 |
| 4.4 FZO薄膜的品质因子 | 第48-49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-51页 |
| 第5章 反应溅射法制备的AZO薄膜结构和透明导电性能 | 第51-60页 |
| 5.1 反应溅射法制备的AZO薄膜结构 | 第51-54页 |
| 5.2 反应溅射法制备的AZO薄膜的电学性能 | 第54-56页 |
| 5.3 反应溅射法制备的AZO薄膜的光学性能 | 第56-58页 |
| 5.4 AZO薄膜的品质因子 | 第58页 |
| 5.5 本章小结 | 第58-60页 |
| 第6章 全文总结 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69页 |
