小口径磁流变抛光装置设计与关键技术研究
| 摘要 | 第9-10页 |
| ABSTRACT | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-18页 |
| 1.1 课题的来源与意义 | 第12-13页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第12页 |
| 1.1.2 课题研究的背景与意义 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-16页 |
| 1.2.1 小口径光学元件加工方法 | 第13-15页 |
| 1.2.2 小口径磁流变抛光技术研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3 论文的主要内容 | 第16-18页 |
| 第二章 磁场建模分析与磁流变抛光装置研制 | 第18-32页 |
| 2.1 磁流变抛光机理 | 第18页 |
| 2.2 磁场源的理论分析 | 第18-20页 |
| 2.3 磁场建模与仿真分析 | 第20-27页 |
| 2.3.1 磁场发生器设计与理论分析 | 第20-25页 |
| 2.3.2 磁流变液回收单元设计 | 第25-26页 |
| 2.3.3 抛光装置关键零部件设计与优化 | 第26-27页 |
| 2.4 磁屏蔽理论分析与研究 | 第27-29页 |
| 2.5 传动方式选择 | 第29-30页 |
| 2.6 本章小结 | 第30-32页 |
| 第三章 抛光装置长时间循环稳定性研究 | 第32-45页 |
| 3.1 流动过程中速度与加速度分析 | 第32-33页 |
| 3.2 磁流变液体流动状态分析 | 第33-36页 |
| 3.2.1 液体流动状态的速度建模 | 第34-35页 |
| 3.2.2 速度核心区形成机理研究 | 第35-36页 |
| 3.3 流动机理分析与研究 | 第36-42页 |
| 3.3.1 液体输送管路理论建模研究 | 第36-39页 |
| 3.3.2 磁流变液固体颗粒沉降过程建模 | 第39-42页 |
| 3.4 样件修形实例 | 第42-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 光学表面中高频误差控制策略研究 | 第45-57页 |
| 4.1 中高频误差产生机理与控制策略 | 第45-46页 |
| 4.2 复合式运动平台设计 | 第46-47页 |
| 4.3 抛光轮尺寸与修正频率能力研究 | 第47-52页 |
| 4.3.1 磁流变加工材料去除能力评价 | 第47-48页 |
| 4.3.2 材料去除过程研究 | 第48-50页 |
| 4.3.3 修正能力与去除函数尺寸关系研究 | 第50-52页 |
| 4.4 抑制中高频误差的参数匹配与仿真分析 | 第52-55页 |
| 4.4.1 激振器参数与加工工艺参数匹配 | 第52-54页 |
| 4.4.2 抑制中高频误差的仿真分析 | 第54-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 磁流变抛光工艺实验与分析 | 第57-67页 |
| 5.1 材料去除有效性实验 | 第57页 |
| 5.2 磁流变抛光单因素实验 | 第57-61页 |
| 5.2.1 抛光轮转速对去除效率的影响 | 第58-59页 |
| 5.2.2 压深对去除效率的影响 | 第59-60页 |
| 5.2.3 磁场强度对去除效率的影响 | 第60-61页 |
| 5.3 复合式振动对中高频误差影响实验 | 第61-66页 |
| 5.3.1 复合式运动对中高频误差的影响 | 第61-64页 |
| 5.3.2 振动方向与去除误差能力的关系 | 第64-66页 |
| 5.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 6.1 全文总结 | 第67-68页 |
| 6.2 研究展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第76页 |
