摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-17页 |
1.1 引言 | 第9-10页 |
1.2 WO_3的结构 | 第10-11页 |
1.3 WO_3基纳米材料的制备方法 | 第11-13页 |
1.4 WO_3基纳米材料在气敏传感器中的应用 | 第13-14页 |
1.5 WO_3基纳米材料在光催化降解中的应用 | 第14-15页 |
1.6 课题研究的目的及意义 | 第15-17页 |
第二章 实验方法 | 第17-25页 |
2.1 化学试剂 | 第17-18页 |
2.2 实验仪器 | 第18页 |
2.3 表征方法 | 第18-20页 |
2.4 微波-辅助气液表界面法 | 第20页 |
2.5 气敏传感器的制作及性能评价参数 | 第20-22页 |
2.6 光催化性能测试 | 第22-25页 |
第三章 碱性路线制备WO_3基纳米材料及其气敏性能研究 | 第25-51页 |
3.1 引言 | 第25页 |
3.2 不同加水量对纯WO_3气敏性能的影响 | 第25-33页 |
3.2.1 纳米材料的制备 | 第25-26页 |
3.2.2 材料表征 | 第26-32页 |
3.2.3 气敏性能研究 | 第32-33页 |
3.3 无机盐添加剂对WO_3/rGO纳米材料形貌及其气敏性能影响 | 第33-41页 |
3.3.1 纳米材料的制备 | 第34-35页 |
3.3.2 材料表征 | 第35-38页 |
3.3.3 气敏性能研究 | 第38-41页 |
3.4 Ag/WO_3/rGO的制备及气敏性能研究 | 第41-48页 |
3.4.1 纳米材料的制备 | 第41-42页 |
3.4.2 材料表征 | 第42-46页 |
3.4.3 紫外光照/无光照条件下气敏性能研究 | 第46-48页 |
3.5 本章小结 | 第48-51页 |
第四章 酸性路线制备WO_3基纳米材料及其气敏性能研究 | 第51-67页 |
4.1 引言 | 第51页 |
4.2 不同溶剂比条件下制备纯WO_3纳米材料的气敏性能研究 | 第51-59页 |
4.2.1 纳米材料制备 | 第51页 |
4.2.2 材料表征 | 第51-56页 |
4.2.3 气敏性能研究 | 第56-59页 |
4.3 二元纳米材料WO_3/rGO的气敏性能研究 | 第59-65页 |
4.3.1 纳米材料制备 | 第60页 |
4.3.2 材料表征 | 第60-63页 |
4.3.3 气敏性能研究 | 第63-65页 |
4.4 本章小结 | 第65-67页 |
第五章 酸性路线制备的WO_3基纳米材料的光催化性能研究 | 第67-71页 |
5.1 引言 | 第67页 |
5.2 材料的制备 | 第67页 |
5.3 材料表征 | 第67-69页 |
5.4 酸性路线制备的WO_3基纳米材料的光降解性能研究 | 第69-70页 |
5.5 本章小结 | 第70-71页 |
结论与展望 | 第71-73页 |
致谢 | 第73-75页 |
参考文献 | 第75-83页 |
附录攻读硕士学位期间的研究成果 | 第83页 |