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气液界面制备WO3基纳米材料及相关性能研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 绪论第9-17页
    1.1 引言第9-10页
    1.2 WO_3的结构第10-11页
    1.3 WO_3基纳米材料的制备方法第11-13页
    1.4 WO_3基纳米材料在气敏传感器中的应用第13-14页
    1.5 WO_3基纳米材料在光催化降解中的应用第14-15页
    1.6 课题研究的目的及意义第15-17页
第二章 实验方法第17-25页
    2.1 化学试剂第17-18页
    2.2 实验仪器第18页
    2.3 表征方法第18-20页
    2.4 微波-辅助气液表界面法第20页
    2.5 气敏传感器的制作及性能评价参数第20-22页
    2.6 光催化性能测试第22-25页
第三章 碱性路线制备WO_3基纳米材料及其气敏性能研究第25-51页
    3.1 引言第25页
    3.2 不同加水量对纯WO_3气敏性能的影响第25-33页
        3.2.1 纳米材料的制备第25-26页
        3.2.2 材料表征第26-32页
        3.2.3 气敏性能研究第32-33页
    3.3 无机盐添加剂对WO_3/rGO纳米材料形貌及其气敏性能影响第33-41页
        3.3.1 纳米材料的制备第34-35页
        3.3.2 材料表征第35-38页
        3.3.3 气敏性能研究第38-41页
    3.4 Ag/WO_3/rGO的制备及气敏性能研究第41-48页
        3.4.1 纳米材料的制备第41-42页
        3.4.2 材料表征第42-46页
        3.4.3 紫外光照/无光照条件下气敏性能研究第46-48页
    3.5 本章小结第48-51页
第四章 酸性路线制备WO_3基纳米材料及其气敏性能研究第51-67页
    4.1 引言第51页
    4.2 不同溶剂比条件下制备纯WO_3纳米材料的气敏性能研究第51-59页
        4.2.1 纳米材料制备第51页
        4.2.2 材料表征第51-56页
        4.2.3 气敏性能研究第56-59页
    4.3 二元纳米材料WO_3/rGO的气敏性能研究第59-65页
        4.3.1 纳米材料制备第60页
        4.3.2 材料表征第60-63页
        4.3.3 气敏性能研究第63-65页
    4.4 本章小结第65-67页
第五章 酸性路线制备的WO_3基纳米材料的光催化性能研究第67-71页
    5.1 引言第67页
    5.2 材料的制备第67页
    5.3 材料表征第67-69页
    5.4 酸性路线制备的WO_3基纳米材料的光降解性能研究第69-70页
    5.5 本章小结第70-71页
结论与展望第71-73页
致谢第73-75页
参考文献第75-83页
附录攻读硕士学位期间的研究成果第83页

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